[發(fā)明專利]一種鍍鎳金剛石及其生產(chǎn)工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810964280.6 | 申請日: | 2018-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN109023250B | 公開(公告)日: | 2020-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張風(fēng)嶺;楊懷建;李璞;李鵬濤;李明輝 | 申請(專利權(quán))人: | 中南鉆石有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/18 | 分類號: | C23C14/18;C23C14/24;C23C24/08;C23C28/02;C25D3/12;C25D7/00;B22F1/02 |
| 代理公司: | 鄭州聯(lián)科專利事務(wù)所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 時(shí)立新;楊海霞 |
| 地址: | 473264 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金剛石 及其 生產(chǎn)工藝 | ||
1.一種鍍鎳金剛石生產(chǎn)工藝,其特征在于,依次包括金剛石表面鍍鈦工藝、燒結(jié)鎳工藝和電沉積鎳工藝,所述燒結(jié)鎳工藝包括如下步驟:
1)制備燒結(jié)鎳粉:按配比分別稱取CaSiO3粉、SiO2粉、Al2O3粉和鎳粉,混合均勻,制成燒結(jié)鎳粉,備用;
2)制備粘合劑:按配比分別稱取無水乙醇、丁醇和丙三醇,混合均勻,制成粘合劑,備用;
3)制備混合原料:按配比分別稱取表面鍍鈦金剛石和粘合劑,攪拌均勻,再按配比加入燒結(jié)鎳粉,繼續(xù)攪拌均勻,制成混合原料;
4)燒結(jié):將混合原料放至真空燒結(jié)室中,在真空條件下加熱至550~750℃并保溫10~30分鐘,保溫結(jié)束后向真空燒結(jié)室內(nèi)充入氬氣冷卻降溫,即得燒結(jié)鎳金剛石;
所述金剛石表面鍍鈦工藝包括如下步驟:
1)制備鍍層粉劑:按配比分別稱取顆粒尺寸不大于300目的TiO2、MgCl2和Al粉,混合均勻,制成鍍層粉劑,備用;步驟1)中,鍍層粉劑各原料組分的質(zhì)量份配比為TiO2 32~37份、MgCl2 43~53份和Al粉10~15份;
2)制備粘合劑:按配比分別稱取無水乙醇、丁醇和丙三醇,混合均勻,制成粘合劑,備用;步驟2)中,粘合劑各原料組分的質(zhì)量份配比為:無水乙醇80~120份、丁醇8~12份和丙三醇3~4份;
3)制備混合原料:按配比分別稱取金剛石和粘合劑,加入容器內(nèi)攪拌均勻,再按配比加入鍍層粉劑,繼續(xù)攪拌均勻,制成混合原料,備用;步驟3)中,金剛石、鍍層粉劑和粘合劑的質(zhì)量份配比分別為:90~150份、15~35份、0.7~2.5份;
4)蒸鍍:將混合原料放至真空蒸鍍室中,在真空條件下加熱至750~850℃并保溫50~100分鐘,保溫結(jié)束后向真空蒸鍍室內(nèi)充入氬氣冷卻降溫,即得表面鍍鈦金剛石;
所述電沉積鎳工藝包括如下步驟:
1)配制鍍液:按配比分別稱取硫酸鎳、氯化鈉、硼酸和去離子水,混勻獲得鍍液,備用;步驟1)中鍍液各原料組分的質(zhì)量份配比為:硫酸鎳18~28份、氯化鈉15~25份、硼酸4~10份和去離子水100份;
2)滾鍍機(jī)裝機(jī):將鍍液和燒結(jié)鎳金剛石倒入滾鍍機(jī)的滾鍍罐內(nèi),將滾鍍罐卡入滾鍍機(jī)的卡盤上,以銅絲為陰極,以鎳板為陽極進(jìn)行電沉積;
3)滾鍍:調(diào)整滾鍍罐轉(zhuǎn)速為20~60轉(zhuǎn)/min;調(diào)整電壓為3~10伏;當(dāng)電量顯示值達(dá)到電沉量對應(yīng)的電量值時(shí),停止?jié)L鍍機(jī)工作,即得到鍍鎳金剛石成品。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍鎳金剛石生產(chǎn)工藝,其特征在于,步驟1)中燒結(jié)鎳粉各原料組分的質(zhì)量份配比為CaSiO3粉5~15份、SiO2粉5~15份、Al2O3粉5~15份和鎳粉90~150份;步驟2)中,粘合劑各原料組分的質(zhì)量份配比為:無水乙醇80~120份、丁醇8~12份和丙三醇3~4份;步驟3)中,表面鍍鈦金剛石、燒結(jié)鎳粉和粘合劑的質(zhì)量份配比分別為:80~150份、40~150份、1.2~3.5份。
3.采用權(quán)利要求1至2任一所述生產(chǎn)工藝生產(chǎn)得到的鍍鎳金剛石。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





