[發(fā)明專利]一種橫向二極管器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810962570.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109065635B | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張金平;鄒華;羅君軼;趙陽;劉競(jìng)秀;李澤宏;張波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/861 | 分類號(hào): | H01L29/861;H01L29/06;H01L21/329 |
| 代理公司: | 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 葛啟函 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 橫向 二極管 器件 | ||
一種橫向二極管器件,屬于功率半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。其元胞結(jié)構(gòu)包括自下而上依次設(shè)置的襯底電極、N型半導(dǎo)體襯底、介質(zhì)層和N?半導(dǎo)體漂移區(qū),N?半導(dǎo)體漂移區(qū)頂層一側(cè)設(shè)置P型半導(dǎo)體基區(qū),另一側(cè)設(shè)置N+半導(dǎo)體漏區(qū);N+半導(dǎo)體漏區(qū)上表面具有陰極金屬;P型半導(dǎo)體基區(qū)頂層并排設(shè)置P+半導(dǎo)體接觸區(qū)和N+半導(dǎo)體源區(qū),N+半導(dǎo)體源區(qū)位于靠近N+半導(dǎo)體漏區(qū)的一側(cè);N+半導(dǎo)體源區(qū)、P型半導(dǎo)體基區(qū)和N?半導(dǎo)體漂移區(qū)的上表面設(shè)置一個(gè)溝槽結(jié)構(gòu),溝槽結(jié)構(gòu)上具有包括自下而上設(shè)置的介質(zhì)層、多晶硅和陽極金屬的柵極結(jié)構(gòu);P+半導(dǎo)體接觸區(qū)和N+半導(dǎo)體源區(qū)上表面具有陽極金屬。本發(fā)明具有高正向電流密度、低通態(tài)損耗、高整流效率和高電壓阻斷能力的特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于功率半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,是涉及一種橫向二極管器件結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
人類的歷史,就是一部面對(duì)大自然挑戰(zhàn)的歷史。隨著人類工業(yè)革命深度和廣度的不斷擴(kuò)展,人們?cè)谙硎芄I(yè)化成果帶來便利的同時(shí),也不斷面臨著種種危機(jī)。作為工業(yè)的“血液”,能源資源的可持續(xù)性利用一直以來受到世界各國的重視。而能源資源的日益消耗,也讓人們感受到了“能源危機(jī)”。在尋求新型能源作為化石能源的替代的同時(shí),人們也在思考如何讓能源的利用率達(dá)到最大化。電能是人類能直接利用的主要能源,而管理著電能的電力系統(tǒng)是人類提高電能使用率的關(guān)鍵途徑。作為電力系統(tǒng)的核心,半導(dǎo)體功率器件至少控制著世界上70%以上的電力能源,故其“電變換”能力及效率的高低,對(duì)能源資源利用率的提升具有重大意義。
功率器件目前仍主要以硅基晶閘管、功率PIN器件、功率雙極結(jié)型器件、肖特基勢(shì)壘二極管、功率MOSFET以及絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管為主,這些器件在全功率范圍內(nèi)得到了廣泛的應(yīng)用,以其悠久的歷史、成熟的設(shè)計(jì)技術(shù)和工藝技術(shù)占領(lǐng)了功率半導(dǎo)體器件的主導(dǎo)市場(chǎng)。然而,因研究人員對(duì)其機(jī)理研究較為透徹,其性能均已接近硅材料的理論極限,通過對(duì)硅基功率器件的設(shè)計(jì)和優(yōu)化達(dá)到性能上的大幅度提升已經(jīng)困難重重。
碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料,以其優(yōu)異的材料特性引起了功率器件開發(fā)人員的廣泛興趣。碳化硅材料是第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,也是目前晶體生長(zhǎng)技術(shù)和器件制造水平最成熟、應(yīng)用最廣泛的寬禁帶半導(dǎo)體材料之一。其相比于硅材料具有較大的禁帶寬度,較高的熱導(dǎo)率,較高的電子飽和漂移速度以及10倍于硅材料的臨界擊穿電場(chǎng),使其在高溫、高頻、大功率、抗輻射應(yīng)用場(chǎng)合下成為十分理想的半導(dǎo)體材料。由于碳化硅功率器件可顯著降低電子設(shè)備的能耗,同時(shí)減小電子設(shè)備的體積,故碳化硅功率器件十分貼合當(dāng)代社會(huì)節(jié)能減排的時(shí)代主題。
在功率器件開發(fā)及應(yīng)用過程中較為常見的橫向碳化硅二極管中,常規(guī)橫向碳化硅PIN二極管盡管電壓阻斷能力較強(qiáng),但正向?qū)▔航荡?約為3.1V)、雙極導(dǎo)電機(jī)理不可避免地引起反向恢復(fù)特性差等問題,極不利于其在整流中的應(yīng)用;而橫向碳化硅肖特基二極管(SBD)盡管反向恢復(fù)特性極佳,但因其漏電較大,且高溫可靠性較差,這些因素同樣限制了橫向碳化硅肖特基二極管在整流中的應(yīng)用。橫向碳化硅超勢(shì)壘二極管彌補(bǔ)了兩種傳統(tǒng)橫向二極管的不足,具有較低的正向?qū)▔航狄约昂苄〉穆╇娏鳎约拜^高的高溫可靠性。該優(yōu)勢(shì)切合了當(dāng)代社會(huì)發(fā)展節(jié)能減排的主題,故其在功率器件市場(chǎng)上受到了科研人員的廣泛重視。傳統(tǒng)橫向碳化硅超勢(shì)壘二極管元胞結(jié)構(gòu)示意如圖1所示。盡管超勢(shì)壘器件克服了PIN二極管、肖特基二極管的諸多不足,然而作為溝道型器件,傳統(tǒng)橫向超勢(shì)壘二極管具有正向?qū)娏髅芏鹊汀⒎聪蜃钄嗄芰^差等不足之處,限制了傳統(tǒng)橫向碳化硅超勢(shì)壘二極管在整流應(yīng)用中的廣泛使用。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述傳統(tǒng)橫向碳化硅超勢(shì)壘二極管存在的正向?qū)娏髅芏鹊汀⒎聪蜃钄嗄芰^差等的問題,本發(fā)明提出一種能提高正向?qū)娏髅芏取⑻嵘妷鹤钄嗄芰Φ臋M向二極管器件及其制作方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案為:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于電子科技大學(xué),未經(jīng)電子科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810962570.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





