[發(fā)明專(zhuān)利]一種陣列基板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810955265.5 | 申請(qǐng)日： | 2018-08-21 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108957891A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-12-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳志杰;王亞威;林建偉;莊崇營(yíng);李林 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02F1/1362 | 分類(lèi)號(hào)： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 廣州粵高專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人： | 鄧義華;陳衛(wèi) |
| 地址： | 516600 廣*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 數(shù)據(jù)線 掃描線 干涉 陣列基板 布設(shè) 原點(diǎn) 垂直交叉 多條掃描 絕緣設(shè)置 消費(fèi)欲望 正常顯示 顯示區(qū) 中心點(diǎn) 鉆孔 美觀 刺激 | ||
1.一種陣列基板，其特征在于，其包括顯示區(qū)和位于顯示區(qū)內(nèi)的BM邊，所述顯示區(qū)內(nèi)設(shè)有相互垂直交叉且絕緣設(shè)置的多條數(shù)據(jù)線和多條掃描線，以BM邊的中心點(diǎn)為原點(diǎn)，以掃描線的布設(shè)方向?yàn)閄軸，以數(shù)據(jù)線的布設(shè)方向?yàn)閅軸，與所述BM邊發(fā)生干涉且位于X軸上方的每條掃描線分別依次圍繞所述BM邊上方設(shè)置，與所述BM邊發(fā)生干涉且位于X軸下方的每條掃描線分別依次圍繞所述BM邊下方設(shè)置，與所述BM邊發(fā)生干涉且位于Y軸左側(cè)的每條數(shù)據(jù)線分別依次圍繞所述BM邊左側(cè)設(shè)置，與所述BM邊發(fā)生干涉且位于Y軸右側(cè)的每條數(shù)據(jù)線分別依次圍繞所述BM邊右側(cè)設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，與所述BM邊發(fā)生干涉的每條所述數(shù)據(jù)線和掃描線的線寬由外向所述BM邊的中心點(diǎn)逐漸增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，與所述BM邊發(fā)生干涉的所述數(shù)據(jù)線的曲率半徑小于所述掃描線的曲率半徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述BM邊的形狀為圓形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述BM邊內(nèi)設(shè)有挖空區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述挖空區(qū)為鉆孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，與所述BM邊發(fā)生干涉的所述數(shù)據(jù)線和掃描線均位于BM區(qū)內(nèi)部。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
