[發(fā)明專利]一種印刷電路板用銅箔及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810944963.5 | 申請日: | 2018-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN109056009B | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李愛芝 | 申請(專利權(quán))人: | 江西偉創(chuàng)豐電路有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/58 | 分類號: | C25D3/58;C22C9/00 |
| 代理公司: | 北京艾皮專利代理有限公司 11777 | 代理人: | 李德勝 |
| 地址: | 341000 江西省贛州市龍南縣龍南*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 銅箔 銅合金層 制備 印刷電路板 硫酸銅電解液 電氣特性 合金元素 樹脂基板 接合 粗化層 鍍敷液 抗剝離 未處理 電鍍 掉粉 鍍敷 剝離 總計(jì) | ||
本發(fā)明涉及一種印刷電路板用銅箔,銅箔與樹脂基板接合的一面為Cu?Ti?Nb?Mo的銅合金層,銅合金層中其它三種合金元素Ti?Nb?Mo合計(jì)所占比為0.0005?2%wt,銅合金層中Ti:Nb:Mo=10:1:39,采用如下制備方法包括如下步驟:將未處理銅箔進(jìn)行鍍敷,鍍敷液為常規(guī)硫酸銅電解液,其中含有Ti、Nb、Mo的化合物,其總計(jì)為0.01?5g/L,所制備的銅箔的剝離強(qiáng)度為2.0?2.5kg/cm,電流密度為25?35A/dm2,電鍍時間為4?8秒,厚度為0.25?2.0μm,較好的實(shí)現(xiàn)了粗化層無掉粉現(xiàn)象,抗剝離強(qiáng)度高,電氣特性好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及印刷電路板(PCB),特別是涉及一種改進(jìn)的印刷電路板用銅箔及其制備方法。
背景技術(shù)
電子電路板,在電子元器件中用于電子零部件之間形成預(yù)定電路的連接,起中繼傳輸?shù)淖饔茫请娮赢a(chǎn)品的關(guān)鍵電子互連件。而作為線路板用的銅箔是主要原件,現(xiàn)有技術(shù)制備的銅箔為了提高與樹脂基板的結(jié)合力,同時還要滿足特定的電氣特性、耐熱性和可蝕刻性,一般都要對銅箔進(jìn)行粗化處理。電解粗化是其中一種處理方法。
現(xiàn)有的銅箔生產(chǎn)工藝生產(chǎn)的銅箔,由于表面處理粗化過程中毛面沉積的結(jié)晶組織結(jié)構(gòu)十分疏松,易形成較多的銅粉,較多的銅粉或者銅粉直徑超過50μm,在制作印制電路板過程中出現(xiàn)電路短路的風(fēng)險(xiǎn)很高,當(dāng)銅箔毛面銅粉數(shù)量較多時,會導(dǎo)致銅箔在下游客戶后加工過程中電路被擊穿或短路,嚴(yán)重影響產(chǎn)品的質(zhì)量。
隨著印制電路板行業(yè)的快速發(fā)展,電子元器件的小型化以及印制電路板的精細(xì)化,較多的毛面銅粉導(dǎo)致的電路短路風(fēng)險(xiǎn)越來越高。
現(xiàn)有的技術(shù)方案無法有效解決毛面銅粉較多的問題,通常采用調(diào)節(jié)粗化、固化電流,減少銅粉產(chǎn)生。只能在一定程度上抑制銅粉產(chǎn)生,效果不明顯,不能從根本上有效解決毛面銅粉。
此外,對于銅箔表面的粗化處理而言,已知還有鈷-鎳合金鍍層的形成,但是,以往的形成有鈷-鎳合金鍍層的銅箔,在其表面形成的由銅-鈷-鎳合金鍍敷得到的粗化粒子的形狀為樹枝狀,該樹枝的上部或根部剝落,通常被稱作落粉現(xiàn)象。
中國發(fā)明專利申請CN 103397342 A公開了一種高耐熱電解銅箔及其制備方法,其特征在于:本發(fā)明的高耐熱電解銅箔是適合于LOW DK/Df的高速高頻、高耐熱CCL和PCB板材需求的電解銅箔,它的毛面晶粒呈層狀結(jié)晶。本發(fā)明的制備方法是是采用直流電沉積工藝制得電解銅箔后,通過多個階段在電解設(shè)備中采取不同的電解液組合及電沉積工藝參數(shù)的配合處理,對電解銅箔的表面進(jìn)行酸洗處理、低粗化處理、固化處理、黑化處理、水洗、防氧化處理、熱水洗、硅烷處理和烘干工序。然而該處理方法粗糙度不一,顆粒大小不一。
中國發(fā)明專利申請CN 103590077 A公開了用于印制電路板及鋰離子二次電池的電解銅箔的制造方法,包括以下步驟:制備添加劑溶液,添加劑溶液中包括聚二硫二丙烷磺酸鈉、聚乙二醇、鹽酸、3-巰基-1-丙烷磺酸鈉;取硫酸銅電解液,將硫酸銅電解液加熱到45~60℃后在硫酸銅電解液中加入添加劑溶液,經(jīng)過均勻攪拌后形成的電解液進(jìn)入電解槽,電解液在電解槽內(nèi)的電流密度為40~80A/dm2,進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng);用濃度為0.1~5g/L且pH值小于6.0的鉻酸鹽溶液對銅箔進(jìn)行表面鈍化;表面鈍化后,進(jìn)行涂硅烷偶聯(lián)劑處理,即得到用于印制電路板及鋰離子二次電池的電解銅箔。該發(fā)明申請并沒有對于粗化進(jìn)行詳細(xì)的論述其不可避免仍然會產(chǎn)生枝狀結(jié)晶,剝離強(qiáng)度低。
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