[發(fā)明專利]陶瓷材料件的表面處理方法、殼體組件及電子設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810943285.0
• 申請(qǐng)日: 2018-08-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109050139A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賈玉虎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類號(hào): B44C5/04
• 分類號(hào): B44C5/04;B44C1/22;B44C1/00;H05K5/02
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃德海

1.一種陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，所述陶瓷材料件包括基板，所述基板具有相對(duì)設(shè)置的內(nèi)表面和外觀面，所述內(nèi)表面上設(shè)有鐳雕區(qū)域，所述表面處理方法包括如下步驟：

在所述內(nèi)表面上設(shè)置一層第一顏色層；

采用鐳雕設(shè)備對(duì)所述第一顏色層進(jìn)行鐳雕去除特定區(qū)域內(nèi)的所述第一顏色層以形成鐳雕紋理；

在所述鐳雕紋理上設(shè)置一層第二顏色層，所述第二顏色層的至少一部分填充到所述鐳雕紋理內(nèi)；

對(duì)所述陶瓷材料件進(jìn)行干燥處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，所述鐳雕紋理形成為線條狀，所述鐳雕紋理具有多個(gè)深度不同的鐳雕部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，所述鐳雕紋理的厚度在所述鐳雕紋理的長(zhǎng)度方向上逐漸減小。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，所述鐳雕紋理包括多個(gè)離散分布的鐳雕點(diǎn)群，每個(gè)所述鐳雕點(diǎn)群包括多個(gè)間隔設(shè)置的鐳雕點(diǎn)，多個(gè)所述鐳雕點(diǎn)群的多個(gè)所述鐳雕點(diǎn)的分布密度不同。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，每個(gè)所述鐳雕點(diǎn)均形成為圓形，多個(gè)所述鐳雕點(diǎn)群中的所述鐳雕點(diǎn)的直徑不同。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，所述第二顏色層為油墨層或釉料層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，還包括：在對(duì)所述鐳雕區(qū)域進(jìn)行鐳雕之前，對(duì)所述陶瓷材料件進(jìn)行超聲清洗。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，還包括：在對(duì)所述鐳雕區(qū)域進(jìn)行鐳雕之后且在所述鐳雕紋理的外表面上設(shè)置所述第二顏色層之前，對(duì)所述鐳雕紋理進(jìn)行拋光處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料件的表面處理方法，其特征在于，還包括：在所述外觀面上設(shè)置AF膜。

10.一種電子設(shè)備的殼體組件，其特征在于，包括：

陶瓷材料件，所述陶瓷材料件采用根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的表面處理方法進(jìn)行處理。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的殼體組件，其特征在于，還包括：本體部，所述陶瓷材料件設(shè)在所述本體部的外周壁上，所述鐳雕區(qū)域設(shè)在所述陶瓷材料件靠近所述本體部的所述內(nèi)表面上。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的殼體組件，其特征在于，所述陶瓷材料件的厚度為0.4mm-0.5mm。

13.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括根據(jù)權(quán)利要求10-12中任一項(xiàng)所述的殼體組件。