[發(fā)明專利]一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810941696.6
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN109101134A
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡川;劉小軍;丁永生;華遠洪
• 申請（專利權(quán)）人: 蕪湖倫豐電子科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 蕪湖思誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34138
• 代理人: 項磊

1.一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，觸摸屏功能片的制備方法如下：

(1)在基材的一側(cè)或兩側(cè)表明形成透明的感應(yīng)圖案導(dǎo)電層；

(2)在感應(yīng)圖案導(dǎo)電層上印刷銀漿線路，使之與下方的導(dǎo)電膜層之間電性接觸，銀漿線路通過搭接塊與感應(yīng)圖案和外圍線路接觸連接；

(3)以一次黃光或者激光工藝在感應(yīng)圖案導(dǎo)電層上通過蝕刻形成感應(yīng)區(qū)圖案；

(4)在印刷有銀漿線路的基材上涂刷光學(xué)膠，使觸摸屏功能片整體貼合；

其特征在于，更改搭接處印刷的銀漿搭接塊圖案或?qū)⒂∷橐徽麎K的銀漿搭接塊通過印刷或者激光鐳射切割為若干小塊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述銀漿搭接塊圖案印刷為鏤空型圖案，圖案形狀包括條形、T字形、口字形或網(wǎng)格形等。

3.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述感應(yīng)圖案導(dǎo)電層為納米銀線，金屬網(wǎng)格或者ITO材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述激光鐳射的切割方式為通過激光線將整塊的銀漿搭接塊切割成銀漿小塊。

5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述激光線為非直線的平行激光線條。

6.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述激光鐳射切割產(chǎn)生的激光線為若干平行線條，所述激光線在銀漿搭接塊以外的距離長度大于0.1mm；所述激光線在銀漿搭接塊上切割的長度比搭接塊的寬度小0.1mm到0.3mm，并保持切割后的銀漿小塊導(dǎo)通。

7.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述平行激光線條的等間距大于0.1mm而小于1mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述平行激光線條的不等間距在0.1mm到1mm之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述銀漿搭接塊圖案寬度在0.5mm到3mm之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的一種改善觸摸屏功能片接觸電阻的方法，其特征在于：所述感應(yīng)圖案上的激光線長度為0.2～2mm；銀漿搭接塊上的激光線長度為0.3～2mm。