[發明專利]一種高性能屏蔽片、制備方法及其線圈模組

有效

• 申請號: 201810941671.6
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN109152317B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 徐可心;林濤;吳長和;王勁;郭慶文;胡會新;馬飛;楊旭;霍云芳;錢江華
• 申請（專利權）人: 無錫藍沛新材料科技股份有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;H02J50/70;H01F27/36
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 俞滌炯

1.一種高性能屏蔽片，其特征在于，包括至少一個薄片，所述薄片包括：

至少一層屏蔽層，所述屏蔽層為軟磁材料形成；

至少一層膠層，所述膠層設置在所述屏蔽層的至少一面；

所述屏蔽層包括復數個圖形化縫隙，所述縫隙將所述屏蔽層分割成復數個圖形化碎片；

所述膠層填充在所述縫隙中，使所述碎片相互隔離并絕緣；

其中，所述縫隙為有序縱向縫隙；和/或

有序橫向縫隙；和/或

斜向單向縫隙；

其中，所述屏蔽層的磁導率為220～10000；

其中，所述薄片形成疊片結構，所述疊片結構由1～12層所述薄片層壓形成；

所述屏蔽層為非晶/納米晶屏蔽層、鐵氧體屏蔽層、EMI吸波材料屏蔽層中的任意一種或兩種以上的組合；所述薄片包括至少一層非晶/納米晶屏蔽層和至少一層EMI吸波材料屏蔽層；

所述屏蔽層制備方法，用于所述EMI吸波材料屏蔽層，包括以下步驟：

將磁性顆粒研磨成磁性粉體；將磁性粉體與樹脂粘結劑按一定比例混合均勻，進行涂覆、烘干，得到卷式EMI吸波材料；通過疊層、層壓形成一定厚度的EMI吸波材料；沖切所述EMI吸波材料，形成EMI吸波材料屏蔽層；

所述研磨為：在容器中放入一定量的磁性顆粒；在容器中放入三種不同直徑的研磨球；在容器中添加一定量的乙醇；研磨一定時間，得到磁性粉體；

所述樹脂粘結劑的制備方法為：將環氧樹脂、酚醛樹脂、聚氨酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸中的任意一種或者兩種以上的組合溶解在N-甲基吡咯烷酮或酒精溶劑中制備得到所述樹脂粘結劑；

所述高性能屏蔽片的制備方法，包括以下步驟：

步驟S1：熱處理

將分切繞制后的多個軟磁材料帶材放置在熱處理爐內進行熱處理；

步驟S2：復合疊層

在第一軟磁材料帶材的第一面粘貼第一疊層膠體，形成單層結構的軟磁材料帶材層；

在所述第一軟磁材料帶材的第二面粘貼第二疊層膠體；

在所述第二疊層膠體的另一面粘貼另一經過熱處理后的第二軟磁材料帶材；

重復上述操作，形成包括至少兩層所述軟磁材料帶材的疊層結構的軟磁材料帶材層；

步驟S3：圖形化處理

對步驟S2得到的單層結構或疊層結構進行表面圖形處理后，得到薄片；

其中，所述步驟S3的圖形化處理方法為：通過線條壓制方法在所述軟磁材料帶材的表面形成紋路；通過點接觸方法增加紋路形成的縫隙的寬度；所述點接觸方法為在紋路的中間或者紋路形成的圖形的頂點或者紋路形成的圖形的內部形成炸點；

所述疊片結構包括1～12層由非晶/納米晶屏蔽層形成的所述薄片，在30KHz～1MHz的工作頻率下，所述疊片結構的矯頑力為5A/m～80A/m，所述疊片結構的剩磁為3mT～140mT；

所述線條壓制方法使用的線條為設置在傳送帶上的線條；或

線段形成的規則圖形或不規則圖形；或

編織形成圖形的線條。

2.根據權利要求1所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述薄片包括1～12層屏蔽層。

3.根據權利要求2所述的高性能屏蔽片，其特征在于，相鄰兩個所述屏蔽層通過所述膠層進行粘接。

4.根據權利要求1所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述碎片的圖形為規則圖形和/或不規則圖形，所述規則圖形包括矩形、圓形、菱形。

5.根據權利要求4所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述圖形的尺寸為0.1mm～3mm。

6.根據權利要求5所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述圖形的尺寸為0.4mm～2mm。

7.根據權利要求1所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述縫隙的寬度為2μm～80μm。

8.根據權利要求7所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述縫隙的寬度為5μm～35μm。

9.根據權利要求1所述的高性能屏蔽片，其特征在于，所述屏蔽層的磁導率為300～2500。