[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810937666.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110060935B | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡柏豪;莊博堯;鄭心圃;翁得期 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/60 | 分類號(hào): | H01L21/60;H01L23/485 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明的實(shí)施例提供了半導(dǎo)體器件和制造方法,從而將中介片和第一半導(dǎo)體器件放置在載體襯底上并且被密封。中介片包括第一部分和遠(yuǎn)離第一部分延伸的導(dǎo)電柱。位于密封劑的第一側(cè)上的再分布層將導(dǎo)電柱電連接至第一半導(dǎo)體器件。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實(shí)施例總體涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,更具體地,涉及半導(dǎo)體器件及其制造方法。
背景技術(shù)
由于各個(gè)電組件(例如,晶體管、二極管、電阻器、電容器等)的集成度的持續(xù)改進(jìn),半導(dǎo)體工業(yè)已經(jīng)經(jīng)歷了快速增長(zhǎng)。在很大程度上,這種集成度的改進(jìn)來自于最小特征尺寸的連續(xù)減小(例如,朝著亞20nm節(jié)點(diǎn)縮小半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)),這允許更多的組件集成到給定的區(qū)域。隨著最近對(duì)小型化、更高的速度和更大的帶寬以及更低的功耗和延遲的需求增長(zhǎng),對(duì)半導(dǎo)體管芯的更小和更具創(chuàng)造性的封裝技術(shù)的需求也增長(zhǎng)。
隨著半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)一步發(fā)展,堆疊和接合的半導(dǎo)體器件作為有效可選方式出現(xiàn)以進(jìn)一步減小半導(dǎo)體器件的物理尺寸。在堆疊的半導(dǎo)體器件中,各有源電路(諸如邏輯、存儲(chǔ)器、處理器電路等)至少部分地在不同的襯底上制造,并且之后將這些有源電路物理和電接合在一起以形成功能器件。這種接合工藝?yán)脧?fù)雜的技術(shù),并且期望改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種制造半導(dǎo)體器件的方法,所述方法包括:將粘合層放置在載體上方;將第一半導(dǎo)體器件放置在所述載體上,所述第一半導(dǎo)體器件具有第一厚度;將第一襯底放置在所述載體上,所述第一襯底具有小于所述第一厚度的第二厚度,其中,導(dǎo)電柱與所述第一襯底物理接觸;以及將密封劑與所述第一襯底、所述導(dǎo)電柱和所述第一半導(dǎo)體器件的每個(gè)均物理接觸。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面,提供了一種制造半導(dǎo)體器件的方法,所述方法包括:形成具有導(dǎo)電布線的中介片;將導(dǎo)電柱鍍至所述中介片上并且與所述導(dǎo)電布線電連接;去除所述中介片的部分以形成環(huán)件;將所述環(huán)件放置在第一載體襯底上;將第一半導(dǎo)體器件放置在所述第一載體襯底上,其中,在放置所述環(huán)件并且放置所述第一半導(dǎo)體器件之后,自頂向下看,所述環(huán)件圍繞所述第一半導(dǎo)體器件;用密封劑填充所述第一半導(dǎo)體器件和所述環(huán)件之間的間隔,其中,在填充所述間隔之后,所述密封劑覆蓋所述導(dǎo)電柱的側(cè)壁;在所述密封劑的第一側(cè)上方形成再分布層,其中,所述再分布層與所述導(dǎo)電柱和所述第一半導(dǎo)體器件的外部連接件物理接觸;以及將第一封裝件附接至所述密封劑的與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面,提供了一種半導(dǎo)體器件,包括:半導(dǎo)體器件,嵌入在密封劑內(nèi);中介片,嵌入在所述密封劑內(nèi),其中,所述中介片具有第一部分和遠(yuǎn)離所述第一部分延伸的導(dǎo)電柱,所述導(dǎo)電柱具有倒錐形形狀,所述第一部分具有小于所述半導(dǎo)體器件的第二厚度的第一厚度,所述中介片圍繞所述半導(dǎo)體器件;再分布層,位于所述密封劑的第一側(cè)上方,所述再分布層將所述導(dǎo)電柱電連接至所述半導(dǎo)體器件;以及第一封裝件,位于所述密封劑中與所述再分布層相對(duì)的側(cè)上,所述第一封裝件通過所述中介片的第一部分和所述導(dǎo)電柱連接至所述半導(dǎo)體器件。
附圖說明
當(dāng)結(jié)合附圖進(jìn)行閱讀時(shí),從以下詳細(xì)描述可最佳理解本發(fā)明的各個(gè)方面。應(yīng)該指出,根據(jù)工業(yè)中的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐,各個(gè)部件未按比例繪制。實(shí)際上,為了清楚的討論,各個(gè)部件的尺寸可以任意地增大或減小。
圖1示出了根據(jù)一些實(shí)施例的載體上的粘合層和管芯附接膜的放置。
圖2示出了根據(jù)一些實(shí)施例的第一半導(dǎo)體器件。
圖3A至圖3E示出了根據(jù)一些實(shí)施例的環(huán)件的形成。
圖4示出了根據(jù)一些實(shí)施例的第一半導(dǎo)體器件和環(huán)件在載體上的放置。
圖5示出了根據(jù)一些實(shí)施例的半導(dǎo)體器件和環(huán)件的密封。
圖6示出了根據(jù)一些實(shí)施例的密封劑的平坦化。
圖7示出了根據(jù)一些實(shí)施例的再分布層的形成。
圖8示出了根據(jù)一些實(shí)施例的外部連接件的形成。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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