[發明專利]一種等離子體處理工藝的控制方法

在審

• 申請號: 201810935720.5
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN109243957A
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 游代華
• 申請（專利權）人: 游代華
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種等離子體處理工藝的控制方法，其特征在于，包括獲取工藝流程參數管理表中的工藝數據，其中，所述工藝流程參數管理表中包括配置的工藝數據，該工藝數據包括工藝步驟及對應工藝步驟下的工藝參數；

通過基于OPC協議的數據通訊，對獲取到的工藝數據進行封裝，并將封裝后的工藝數據發送給工業組態監控設備，以使所述工業組態監控設備根據所述工藝步驟和工藝參數控制與其相連的工藝設備執行對應的工藝操作；

在所述工藝設備執行工藝操作過程中，獲取所述工業組態監控設備從所述工藝設備監測到的工藝操作狀態實時信息，其中，所述工藝操作狀態實時信息包括正在執行的工藝步驟及對應工藝步驟下的實際工藝參數；

將所述工藝操作狀態實時信息中正在執行的工藝步驟和實際工藝參數，與所述已配置的工藝數據中的工藝步驟和工藝參數，進行對比；

根據所述對比結果，反向控制所述工業組態監控設備調整正在執行的工藝操作。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理工藝的控制方法，其特征在于，所述工藝流程參數管理表包括用于數據處理和統計分析的EXCEL表。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理工藝的控制方法，其特征在于，所述工業組態監控設備包括用于從工藝設備獲取工藝操作狀態實時信息和命令工藝設備執行工藝操作的可編程控制器，以及組態軟件。

4.根據權利要求1所述的等離子體處理工藝的控制方法，其特征在于，獲取所述工藝組態監控設備根據所述工藝操作狀態實時信息生成的至少一個統計圖表；通過基于所述OPC協議的數據通訊，將所述獲取的至少一個統計圖表發送給所述工藝流程參數管理表。

5.一種等離子體處理的工藝控制裝置，其特征在于，包括：工藝數據獲取模塊、工藝操作狀態實時信息獲取模塊、對比模塊和控制模塊，工藝數據獲取模塊用于獲取工藝流程參數管理表中的工藝數據，其中，所述工藝流程參數管理表中包括配置的工藝數據，該工藝數據包括工藝步驟及對應工藝步驟下的工藝參數；工藝數據發送模塊，用于通過基于OPC協議的數據通訊，對所述工藝數據獲取模塊獲取到的工藝數據進行封裝，并將封裝后的工藝數據發送給工業組態監控設備，以使所述工業組態監控設備根據所述工藝步驟和工藝參數控制與其相連的工藝設備執行對應的工藝操作；

工藝操作狀態實時信息獲取模塊，用于在所述工藝設備執行工藝操作過程中，獲取所述工業組態監控設備從所述工藝設備監測到的工藝操作狀態實時信息，其中，所述工藝操作狀態實時信息包括正在執行的工藝步驟及對應工藝步驟下實際工藝參數；

對比模塊，用于將所述工藝操作狀態實時信息中正在執行的工藝步驟和實際工藝參數，與所述已配置的工藝數據中的工藝步驟和工藝參數，進行對比；

控制模塊，用于根據所述對比結果，反向控制所述工業組態監控設備調整正在執行的工藝操作。