[發明專利]光學膠涂布設備

在審

• 申請號: 201810934322.1
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN108745789A
• 公開（公告）日: 2018-11-06
• 發明（設計）人: 李廣宇
• 申請（專利權）人: 安吉科廣新材料科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05B15/55;B05B15/522
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 韓燕燕

本發明提供一種光學膠涂布設備，包括光學膠涂布機構及兩個光學膠殘留清除結構；光學膠涂布機構包括光學膠存儲器以及設置于光學膠存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側壁面與該光學膠存儲器連接，該涂布組件設置有沿著該第一側壁面的中垂面設置的涂布槽，該光學膠涂布機構本體的兩個相互傾斜連接的第二側壁面上分別設置有滑動槽；光學膠殘留清除結構包括滑塊、擦板、風嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設置于所述滑動槽中，所述滑塊中設置有電機驅動機構以驅動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設置于該滑塊上且其內側面與該第二側壁面的局部貼合，該擦板以及風嘴分別設置于該滑塊上且位于該擦板兩側。

技術領域

本發明涉及材料涂布領域，具體涉及一種光學膠涂布設備。

背景技術

光學膠涂布設備在涂布光學膠到面板上時，會在該涂布組件上殘留一些光學膠，下次涂布時這些光學膠殘留會與新的光學膠接觸，影響涂布時的質量，可能產生不良產品。

因此，現有技術存在缺陷，急需改進。

發明內容

本發明實施例的目的是提供一種光學膠涂布設備，具有自動去除光學膠殘留的效果。

本發明提供了一種光學膠涂布設備，包括光學膠涂布機構以及兩個光學膠殘留清除結構；

所述光學膠涂布機構包括光學膠存儲器以及設置于所述光學膠存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側壁面與該光學膠存儲器連接，該涂布組件設置有沿著該第一側壁面的中垂面設置的涂布槽，該涂布槽從該第一側壁面處延伸至與該第一側壁面相對的側棱處，且將該側棱貫穿，該涂布槽的長度小于該涂布組件的長度；

該光學膠涂布機構本體的兩個相互傾斜連接的第二側壁面上分別設置有滑動槽，該滑動槽沿著該涂布組件的長度方向延伸；

該兩個光學膠殘留清除結構分別設置于該兩個第二側壁面上且可沿著所述滑動槽滑動；所述光學膠殘留清除結構包括滑塊、擦板、風嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設置于所述滑動槽中，所述滑塊中設置有電機驅動機構以驅動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設置于該滑塊上且其內側面與該第二側壁面的局部貼合，該擦板以及風嘴分別設置于該滑塊上且位于該擦板兩側；

所述涂布槽的寬度可調。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述涂布槽的內側壁面上設置有壓電陶瓷層；

所述光學膠涂布設備還包括一觸控操作面板以及驅動電路，該驅動電路與壓電陶瓷層電連接，該觸控操作面板設置于該光學膠存儲器的側壁面上并與該驅動電路電連接，該觸控操作面板用于供用戶輸入涂布厚度，該觸控操作面板根據該涂布厚度控制該驅動電路調整該壓電陶瓷的厚度，進而調整該涂布槽的寬度。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述光學膠存儲器內設置有溫度傳感器以及加熱組件，該溫度傳感器與該加熱組件連接。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述涂布槽的兩相對的內側壁面分別設置有一所述壓電陶瓷層。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述涂布槽的兩相對的內側壁面中一個側壁面設置有所述壓電陶瓷層，另一側壁面設置有一薄膜加熱層。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述擦板的寬度為所述第二側壁面寬度的一半。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述擦板可沿著所述第二側壁面的寬度方向滑動地設置于該滑塊上，且該擦板上設置有鎖緊機構，使得鎖緊時，該擦板相對該滑塊固定，解鎖時，該擦板可相對該滑塊滑動。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述擦板的與所述第二側壁面接觸的一面設置有彈性層。

在本發明所述的光學膠涂布設備中，所述擦板的寬度為所述第二側壁面的寬度相同。