[發(fā)明專(zhuān)利]反向?qū)↖GBT在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810934187.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109411470A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | H-G.埃克爾;Q.T.特蘭 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 英飛凌科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/082 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/082;H01L21/8222 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陳曉;申屠偉進(jìn) |
| 地址: | 德國(guó)瑙伊比*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體主體 負(fù)載端子 第一導(dǎo)電類(lèi)型 漂移區(qū) 晶體管 晶體管單元 電氣連接 反向?qū)?/a> 功率半導(dǎo)體器件 肖特基接觸 導(dǎo)電類(lèi)型 負(fù)載電流 分離區(qū) 地被 配置 | ||
1.一種功率半導(dǎo)體器件(1),其具有半導(dǎo)體主體(10)、被布置在半導(dǎo)體主體(10)的前側(cè)(10-1)的第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)、以及被布置在半導(dǎo)體主體(10)的后側(cè)(10-2)的第二負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(12),并且被配置用于借助于至少一個(gè)晶體管單元(130)來(lái)控制在第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)和第二負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(12)之間的負(fù)載電流,所述晶體管單元(130)至少部分地被包括在半導(dǎo)體主體(10)中并且在一側(cè)被電氣連接到第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)并且在另一側(cè)被電氣連接到半導(dǎo)體主體(10)的漂移區(qū)(100),所述漂移區(qū)(100)具有第一導(dǎo)電類(lèi)型,
其中所述半導(dǎo)體主體(10)進(jìn)一步包括:
- 具有第一導(dǎo)電類(lèi)型的晶體管短區(qū)(107),其中在所述晶體管短區(qū)(107)與第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)之間的過(guò)渡形成肖特基接觸(108);以及
- 分離區(qū)(109),所述分離區(qū)(109)使晶體管短區(qū)(107)與漂移區(qū)(100)分離并且具有與第一導(dǎo)電類(lèi)型互補(bǔ)的第二導(dǎo)電類(lèi)型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述晶體管短區(qū)(107)包括與第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)對(duì)接的第一部分(107-1)以及與分離區(qū)(109)對(duì)接的第二部分(107-2),所述第一部分(107-1)內(nèi)的第一導(dǎo)電類(lèi)型的摻雜劑的濃度是第二部分(107-2)內(nèi)的第一導(dǎo)電類(lèi)型的摻雜劑的濃度的至多1/10。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中,在所述晶體管短區(qū)(107)內(nèi),第一導(dǎo)電類(lèi)型的摻雜劑的濃度沿著從分離區(qū)(109)指向第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)的方向至少減少到1/10。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),包括至少兩個(gè)晶體管單元(130),其中所述晶體管短區(qū)(107)被布置在所述至少兩個(gè)晶體管單元(130)外部并且橫向地在所述至少兩個(gè)晶體管單元(130)中間。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述半導(dǎo)體主體(10)包括第一后側(cè)發(fā)射極區(qū)(105),所述第一后側(cè)發(fā)射極區(qū)(105)被布置成與第二負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(12)電接觸并且具有第二導(dǎo)電類(lèi)型。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述至少一個(gè)晶體管單元(130)展現(xiàn)有與第一后側(cè)發(fā)射極區(qū)(105)的至少第一共同橫向延伸范圍(LX1)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述半導(dǎo)體主體(10)包括第二后側(cè)發(fā)射極區(qū)(106),所述第二后側(cè)發(fā)射極區(qū)(106)被布置成與第二負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(12)電接觸并且具有第一導(dǎo)電類(lèi)型。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述半導(dǎo)體主體(10)進(jìn)一步包括具有第二導(dǎo)電類(lèi)型的二極管發(fā)射極區(qū)(102),所述二極管發(fā)射極區(qū)(102)被布置在所述至少一個(gè)晶體管單元(130)的外部并且電氣連接到第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11),其中在二極管發(fā)射極區(qū)(102)和漂移區(qū)(100)之間的過(guò)渡形成pn結(jié)(103)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7和8所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述二極管發(fā)射極區(qū)(102)展現(xiàn)有與第二后側(cè)發(fā)射極區(qū)(106)的至少第二共同橫向延伸范圍(LX2)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述二極管發(fā)射極區(qū)(102)的橫向延伸(W1)共計(jì)所述至少一個(gè)晶體管單元(130)的橫向延伸(W2)的至少3倍。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10之一所述的功率半導(dǎo)體器件(1),其中所述二極管發(fā)射極區(qū)(102)包括被布置成與第一負(fù)載端子結(jié)構(gòu)(11)接觸的第二端口區(qū)(1020),其中所述第二端口區(qū)(1020)內(nèi)的第二導(dǎo)電類(lèi)型的摻雜劑的濃度是二極管發(fā)射極區(qū)(102)的其余部分內(nèi)的第二導(dǎo)電類(lèi)型的摻雜劑的濃度的至少10倍。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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