[發(fā)明專利]一種微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810933767.8
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN109023488B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 何剛;金永中;王璐;陳建;梁家寧;毛茂財;附青山
• 申請（專利權(quán)）人: 四川理工學院;四川龍博科技有限公司
• 主分類號: C25D15/00
• 分類號: C25D15/00;C25D3/06;C25D3/08
• 代理公司: 成都正華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李亞男

1.一種微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，包括：

(1)制備基礎(chǔ)鍍液

按濃度為鉻酸180-260g/L、濃硫酸1.6-3.4g/L和三價鉻0.5-4.0g/L稱取原料，加入去離子水在加熱條件下攪拌，加熱條件為55-65℃，待溶液冷卻后，加入鉻霧抑制劑0.05-0.1g/L繼續(xù)攪拌，然后再加入硬鉻添加劑16-20ml/L繼續(xù)攪拌，制得基礎(chǔ)鍍液；

(2)制備改性納米SiC顆粒

將納米SiC顆粒進行堿洗和酸洗處理，然后采用第一復(fù)配液浸洗，浸洗時間為3-5min，之后用去離子沖洗至中性，再采用第二復(fù)配液浸泡，浸泡時間為2-3h，之后用去離子水沖洗、過濾雜質(zhì)至呈中性，烘干，制得改性納米SiC顆粒；其中，第一復(fù)配液包括4-6wt％H₂SO₄、8-12wt％HF和0.3-0.4wt％CrO₃，第二復(fù)配液包括0.02-0.05wt％全氟己基磺酸鈉和0.01-0.04wt％全氟烷基氧雜苯磺酸鈉，納米SiC顆粒的粒徑為50-80nm；

(3)配制復(fù)合鍍液

將所述改性納米SiC顆粒按照15g/L的比例加入至所述基礎(chǔ)鍍液中，攪拌，靜置，制得復(fù)合鍍液；

(4)制備復(fù)合鍍層

將經(jīng)過預(yù)處理的基片置于所述復(fù)合鍍液中在施鍍溫度為40-50℃、陰極電流密度為40-55A/dm²、施鍍時間為40-50min的條件下施鍍，制得微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，堿洗步驟包括：將納米SiC顆粒于5-10wt％氫氧化鈉溶液中煮沸8-12min，然后用去離子水沖洗至中性；

酸洗步驟包括：將經(jīng)過堿洗處理后的納米SiC顆粒于8-12wt％鹽酸中浸泡45-75min，然后用去離子水沖洗至中性。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，配制復(fù)合鍍液包括以下過程：

按照15g/L的比例稱取改性納米SiC顆粒和基礎(chǔ)鍍液，向所述改性納米SiC顆粒中加入基礎(chǔ)鍍液攪拌，調(diào)成呈糊狀，然后加入去離子水進行超聲攪拌10-20min，靜置2-3h，再加入去離子水定容，再超聲攪拌8-12min。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，步驟(4)中，基片的預(yù)處理步驟包括：

打磨、拋光：將基片進行打磨和拋光處理后，用去離子水清洗干凈并吹干；

除油：將基片浸泡于有機溶劑中并攪拌，然后在置于堿液中在60-80℃下煮8-10min，再用去離子水清洗，吹干；其中，所述堿液包括氫氧化鈉80-100g/L、碳酸鈉30-50g/L和磷酸三鈉30-50g/L；

活化：將基片于8-12wt％的H₂SO₄溶液中在25-35℃下浸泡1-3min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，所述基礎(chǔ)鍍液中各原料的濃度為鉻酸200g/L、濃硫酸2.8g/L、三價鉻2.0g/L、鉻霧抑制劑0.08g/L和硬鉻添加劑15ml/L。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層的制備方法，其特征在于，所述第一復(fù)配液包括5wt％H₂SO₄、10wt％HF和0.34wt％CrO₃，所述第二復(fù)配液包括0.04wt％全氟己基磺酸鈉和0.03wt％全氟烷基氧雜苯磺酸鈉。

7.權(quán)利要求1-6任一項所述的制備方法制備得到的微裂紋硬鉻復(fù)合鍍層。