[發明專利]一種通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置與方法

在審

• 申請號: 201810933144.0
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN108834298A
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發明（設計）人: 郭穎;韓乾翰;石建軍;張菁
• 申請（專利權）人: 東華大學
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 翁若瑩;王文穎

1.一種通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，為一種介質阻擋放電等離子體反應器，其包括填充有放電氣體的放電腔體(1)，放電腔體(1)的一端為進氣口(5)，另一端為出氣口(6)，放電腔體(1)上沿氣體流動方向依次設有高壓電極(2)、接地電極(3)、射頻電極(4)。

2.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，所述放電腔體(1)采用截面為圓形的石英管，其內徑為3-7mm，壁厚為1mm，長度為500mm。

3.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，所述高壓電極(2)、接地電極(3)、射頻電極(4)的尺寸均為100mm×5mm×0.15mm；高壓電極(2)與接地電極(3)之間的距離為1-10cm，接地電極(3)與射頻電極(4)之間的距離為0.5-1cm。

4.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，所述放電氣體為氬氣、氦氣和空氣中的任意一種或幾種的混合氣體，其流量為0.1-6SLM。

5.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，所述介質阻擋放電等離子體反應器為等離子體射流反應器。

6.如權利要求1或5所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，其特征在于，所述介質阻擋放電等離子體反應器內設有阻擋介質，阻擋介質采用石英、聚四氟乙烯、氧化鋁陶瓷或玻璃。

7.一種通過輔助放電控制射頻射流長度的方法，其特征在于，采用權利要求1-6任意一項所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的裝置，常溫常壓下，將放電氣體由進氣口(5)通入到放電腔體(1)中，先將射頻電極(4)接通射頻交流電，使放電氣體在接地電極(3)與射頻電極(4)之間產生射頻等離子體射流，然后將高壓電極(2)接通高壓源，使高壓電極(2)與接地電極(3)之間產生等離子體射流。

8.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的方法，其特征在于，所述放電氣體的流量為2000SCCM。

9.如權利要求1所述的通過輔助放電控制射頻射流長度的方法，其特征在于，所述射頻交流電的頻率為2-13.56MHz，功率為10W-100W；所述高壓源采用直流源、直流脈沖或高壓交流源，頻率為100-50000Hz，功率為30-1000W。