[發(fā)明專利]一種光學污染物篩查裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810933135.1 | 申請日： | 2018-08-16 |
| 公開（公告）號： | CN108982368A | 公開（公告）日： | 2018-12-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李久喜;金煜堅;季云飛 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號： | G01N21/03 | 分類號： | G01N21/03 |
| 代理公司： | 工業(yè)和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人： | 于金平 |
| 地址： | 100015*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 污染物 篩查裝置 揮發(fā)物 測試 光學膜片 激光器 污染源 安全 | ||
1.一種光學污染物篩查裝置，其特征在于，包括：
帶有通光窗口的樣品盒，用于透過高峰值功率激光，并模擬待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料在激光器高溫工作狀態(tài)下所處的環(huán)境狀態(tài)，以測試所述待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料的高溫揮發(fā)性；其中，所述樣品盒為一個，或者為依次連續(xù)排列的多個，當所述樣品盒為多個時，所述樣品盒內(nèi)均設有一種激光器內(nèi)部材料的測試樣品；
能量計，用于對所述樣品盒透過的高峰值功率激光進行測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：
半導體制冷器，用于分別承載所述樣品盒，并對所述樣品盒進行加熱。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，還包括：
承載平臺，用于承載所述半導體制冷器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：
脈沖激光器，用于產(chǎn)生所述高峰值功率激光。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的裝置，其特征在于，還包括：
處理器，用于根據(jù)所述能量計檢測的能量值確定所述測試樣品的揮發(fā)性。
6.一種光學污染物篩查方法，其特征在于，所述方法應用權(quán)利要求1-5中任意一項所述的裝置，包括：
通光窗口的樣品盒內(nèi)設有待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料，通過半導體制冷器將所述樣品盒加熱，使所述樣品盒模擬待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料在激光器高溫工作狀態(tài)下所處的環(huán)境狀態(tài)；
根據(jù)能量計檢測的通過樣品盒的能量值測試所述待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料的高溫揮發(fā)性；
其中，所述樣品盒為一個，或者為依次連續(xù)排列的多個，當所述樣品盒為多個時，所述樣品盒內(nèi)均設有一種激光器內(nèi)部材料的測試樣品。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括：
通過脈沖激光器產(chǎn)生所述高峰值功率激光。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于，根據(jù)能量計檢測的通過樣品盒的能量值測試所述待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料的高溫揮發(fā)性，包括：
通過處理器根據(jù)所述能量計檢測的能量值確定所述待測激光器內(nèi)部構(gòu)成材料的揮發(fā)性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國電子科技集團公司第十一研究所，未經(jīng)中國電子科技集團公司第十一研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810933135.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
