[發(fā)明專利]一種光譜儀系統(tǒng)和光譜分析方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810930403.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108956469B | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孟憲芹;王維;譚紀(jì)風(fēng);陳小川;孟憲東;高健;王方舟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01;G01N21/27 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光譜儀 系統(tǒng) 光譜分析 方法 | ||
1.一種光譜儀系統(tǒng),其特征在于,包括:采光裝置和探測(cè)裝置,所述采光裝置包括:第一基板、設(shè)置于所述第一基板入光側(cè)的分光結(jié)構(gòu)和設(shè)置于所述第一基板出光側(cè)的濾光結(jié)構(gòu),所述探測(cè)裝置設(shè)置于接近所述采光裝置中濾光結(jié)構(gòu)的一側(cè),且所述采光裝置與所述探測(cè)裝置之間設(shè)置有測(cè)試通道;
所述分光結(jié)構(gòu),用于將入射光分光為單色光后出射,照射到所述濾光結(jié)構(gòu)上;
所述濾光結(jié)構(gòu),用于過濾所述單色光中的雜散光后出射目標(biāo)波長(zhǎng)范圍的單色光,將出射的單色光通過所述測(cè)試通道中的待測(cè)物后,照射到所述探測(cè)裝置上;
所述探測(cè)裝置,用于接收所述目標(biāo)波長(zhǎng)范圍的單色光與所述待測(cè)物發(fā)生反應(yīng)后的光學(xué)信號(hào),所述光學(xué)信號(hào)為用于對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行光譜分析的光學(xué)信號(hào);
所述分光結(jié)構(gòu)包括用于形成至少一個(gè)像素的微結(jié)構(gòu)圖形;
每個(gè)所述微結(jié)構(gòu)圖形,用于將到達(dá)本微結(jié)構(gòu)圖形的入射光,分光為多個(gè)子像素的單色光后出射;
所述濾光結(jié)構(gòu)包括與所述分光結(jié)構(gòu)分光得到的多個(gè)子像素一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)濾光單元;
所述探測(cè)裝置包括:第二基板,以及設(shè)置于所述第二基板接近所述濾光結(jié)構(gòu)的一側(cè)、且與所述多個(gè)濾光單元一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)探測(cè)單元;
每個(gè)所述濾光單元,用于過濾照射到本濾光單元上單色光中的雜散光后,出射一個(gè)子像素的單色光;
每個(gè)所述探測(cè)單元,用于接收從對(duì)應(yīng)濾光單元出射的、且通過所述待測(cè)物的單色光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述分光結(jié)構(gòu)包括所述第一基板接近入光側(cè)依次設(shè)置的波導(dǎo)層、緩沖層和金屬光柵層,所述金屬光柵層中設(shè)置有所述微結(jié)構(gòu)圖形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,每個(gè)所述微結(jié)構(gòu)圖形中設(shè)置有多個(gè)不同周期的第一微結(jié)構(gòu)單元;
每種所述第一微結(jié)構(gòu)單元,用于將到達(dá)本第一微結(jié)構(gòu)單元的入射光,以一個(gè)子像素的準(zhǔn)直單色光出射。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,每個(gè)所述微結(jié)構(gòu)圖形中設(shè)置有多個(gè)相同周期或不同周期的第二微結(jié)構(gòu)單元,
每種所述第二微結(jié)構(gòu)單元,用于將到達(dá)本第二微結(jié)構(gòu)單元的入射光,以一個(gè)子像素的傾斜單色光出射。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述濾光結(jié)構(gòu)的每個(gè)所述濾光單元中設(shè)置有第三微結(jié)構(gòu)單元,且每個(gè)所述第三微結(jié)構(gòu)單元設(shè)置于對(duì)應(yīng)子像素出射的傾斜單色光照射到所述濾光結(jié)構(gòu)的區(qū)域;
每個(gè)所述第三微結(jié)構(gòu)單元,用于接收從所述對(duì)應(yīng)子像素出射的傾斜單色光,過濾所述傾斜單色光中的雜散光,并將所述傾斜單色光改變傳輸方向后準(zhǔn)直出射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述微結(jié)構(gòu)圖形包括第一膜層,以及設(shè)置于所述第一膜層的第一平面外側(cè)的第二膜層和設(shè)置于所述第一膜層的第二平面外側(cè)的第三膜層,其中,所述第一膜層的第一平面和第二平面形成楔角;
每個(gè)所述微結(jié)構(gòu)圖形,用于將到達(dá)本微結(jié)構(gòu)圖形的入射光,分光為顏色呈線性變化的單色光后出射。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述采光裝置的第一基板周圍除入光位置和出光位置之外的區(qū)域設(shè)置有阻光層,所述濾光結(jié)構(gòu)中相鄰濾光單元之間設(shè)置有阻光單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述采光裝置還包括:設(shè)置于所述分光結(jié)構(gòu)入光側(cè)的光源;
所述光源,用于發(fā)出準(zhǔn)直光或非準(zhǔn)直光。
9.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,所述探測(cè)裝置還包括:設(shè)置于每個(gè)探測(cè)單元入光側(cè)的微流通道;
每個(gè)所述微流通道,用于流入經(jīng)過所述測(cè)試通道的所述待測(cè)物,使得從對(duì)應(yīng)濾光單元出射的目標(biāo)波長(zhǎng)范圍的單色光通過本微流通道中的待測(cè)物后,照射到對(duì)應(yīng)探測(cè)單元上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光譜儀系統(tǒng),其特征在于,每個(gè)所述微流通道垂直于本微流通道對(duì)應(yīng)的探測(cè)單元的入光側(cè)。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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