[發明專利]用于發光元件的化合物及其合成方法有效
| 申請號： | 201810927266.9 | 申請日： | 2014-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN109608473B | 公開（公告）日： | 2021-05-11 |
| 發明（設計）人： | 井上英子;金元美樹;瀨尾廣美;瀨尾哲史;高橋辰義;中川朋香 | 申請（專利權）人： | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號： | C07D491/048 | 分類號： | C07D491/048;C07F5/02 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李志強;魯煒 |
| 地址： | 日本神奈*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 發光 元件 化合物 及其 合成 方法 | ||
1.一種以通式(A1)表示的化合物，
，
其中X表示硼酸，以及
R1至R5分別表示氫、碳原子數為1至6的烷基、取代或未取代的碳原子數為5至7的單環飽和烴、取代或未取代的碳原子數為7至10的多環飽和烴和取代或未取代的碳原子數為6至13的芳基中的任一個。
2.根據權利要求1所述的化合物，
其中R1至R5中的任一個中所包含的取代基是碳原子數為1至3的烷基。
3.根據權利要求1所述的化合物，
其中R2和R4各自表示氫。
4.根據權利要求1所述的化合物，
其中R1至R5各自表示氫。
5.一種合成化合物的方法，所述方法包括：
根據下述方案進行反應：
，
其中X表示鹵素和硼酸中的一個，
R1至R5分別表示氫、碳原子數為1至6的烷基、取代或未取代的碳原子數為5至7的單環飽和烴、取代或未取代的碳原子數為7至10的多環飽和烴和取代或未取代的碳原子數為6至13的芳基中的任一個，
B表示所述鹵素和所述硼酸中的另一個，以及
A1表示取代或未取代的碳原子數為6至100的基團，所述基團選自苯基、芴基、菲基、三亞苯基、二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑基、苯并咪唑基、苯并噁唑基、苯并噻唑基和三苯胺骨架中的至少一個。
6.根據權利要求5所述的合成化合物的方法，
其中所述A1表示取代的二苯并噻吩基、取代的二苯并呋喃基、取代的咔唑基中的任一個，以及
A1的取代基是取代或未取代的亞苯基。
7.根據權利要求5所述的合成化合物的方法，
其中所述A1表示取代的碳原子數為6至100的基團，以及
A1的取代基是碳原子數為1至6的烷基、碳原子數為5至7的單環飽和烴、碳原子數為7至10的多環飽和烴和碳原子數為6至13的芳基中的任一個。
8.根據權利要求5所述的合成化合物的方法，
其中R2和R4各自表示氫。
9.根據權利要求5所述的合成化合物的方法，
其中R1至R5各自表示氫。
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