[發明專利]多元摻雜的ZnO鍍膜材料及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 201810922772.9 | 申請日: | 2018-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN108947518A | 公開(公告)日: | 2018-12-07 |
| 發明(設計)人: | 楊曄;宋偉杰;蘭品軍;李佳;黃金華;王肇肇;許君君;朱永明 | 申請(專利權)人: | 寧波森利電子材料有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/453 | 分類號: | C04B35/453;C04B35/64;C03C17/36 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人: | 文芳 |
| 地址: | 315171 浙江省寧*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 摻雜氧化物粉體 鍍膜材料 多元摻雜 組份 摻雜 制備方法和應用 氧化鋅粉體 原料組份 綜合性能 氧化硅 氧化鋁 氧化錫 氧化釔 氧化鈦 氧化銦 氧化鎵 | ||
本發明公開了一種多元摻雜的ZnO鍍膜材料,所述多元摻雜的ZnO鍍膜材料的原料組份包括:氧化鋅粉體與摻雜氧化物粉體,其中,摻雜氧化物粉體質量/(氧化鋅粉體質量+摻雜氧化物粉體質量)=1~10wt%,同時,該摻雜氧化物粉體由第一摻雜組份與第二摻雜組份構成,該第一摻雜組份為氧化銦,其含量為總摻雜氧化物粉體質量的30~100wt%,該第二摻雜組份為氧化鎵、氧化釔、氧化錫、氧化硅、氧化鈦中的一種,其含量為總摻雜氧化物粉體質量的0~70wt%,以及,該多元摻雜的ZnO鍍膜材料的原料中不包括氧化鋁成分。本發明的優點是:綜合性能較佳。本發明還公開了該多元摻雜的ZnO鍍膜材料的制備方法和應用。
技術領域
本發明涉及鍍膜材料技術領域,尤其是涉及一種多元摻雜的ZnO鍍膜材料。本發明還涉及該多元摻雜的ZnO鍍膜材料的制備方法和應用。
背景技術
目前Low-E玻璃主要采用離線的磁控濺射鍍膜方式生產。根據銀層數量的多少,Low-E鍍膜玻璃的膜系結構可以分為單銀、雙銀以及三銀體系。典型的單銀Low-E玻璃的膜系結構如圖6所示,雙銀以及三銀的膜層結構則可視為單銀膜層結構的疊加。在膜系中,功能膜起到控制整個膜系的表面電阻作用,決定了膜系的輻射率,并直接影響膜系的透射比和反射比。通常的功能膜采用銀作為材料,但由于銀較軟、不耐磨、耐水氧腐蝕性差,因此銀膜兩側需要介質膜。第一層介質膜一般為金屬氧化物膜,主要作為銀膜的生長緩沖層,同時兼有調節膜系光學性能和顏色的作用。外層介質膜也是金屬氧化物膜,它既是減反射膜也是保護膜。在可見光和近紅外太陽能光譜中起減反射作用,以提高此波長范圍內的太陽能透射比,同時保護銀膜,提高膜系的理化性能。
在眾多的氧化物材料中,2wt%Al2O3摻雜的ZnO(簡稱AZO)材料具有折射率匹配、可見光透過率高、濺射效率高、廉價、適合工業化生產以及作為Ag連續生長的優質緩沖層等優點,已經作為第一層介質膜和外層介質膜在Low-E中得到應用。但是AZO作為外層介質膜應用起來并不是特別理想,存在著對Ag層保護不徹底、膜層結合力不足等系列問題:(1)耐濕熱穩定性差。在空氣中放置一段時間后Ag層容易氧化,出現系列白點,進而影響Low-E玻璃存放的長久性。(2)鋼化熱處理過程中的熱穩定性差。Low-E玻璃使用前需要進行空氣氣氛下600℃以上的高溫鋼化處理,外界空氣中的氧以及Low-E膜中堆積的氧極易穿透AZO層擴散至Ag層,導致Ag膜的氧化失效。(3)AZO層與Ag層的附著力較差,在搬運過程中膜面觸碰與摩擦會造成薄膜脫落等,進而影響膜面的質量。
為了解決上述問題,目前的做法是在Ag膜與AZO薄膜之間插入很薄NiCr阻擋層。NiCr層在該膜系中起到了兩方面的作用:NiCr可與殘余的氧氣反應,進一步阻擋氧、水汽對Ag膜的侵蝕,另外作為粘結層提升Ag膜與AZO膜之間的附著力。然而NiCr使用存在的最大問題在于其對可見光強烈的吸收,特別是應用在高端的雙、三銀體系中,可見光透過率降低了近5~10%。因此在膜系結構摒棄NiCr、直接采用高透的ZnO層作為阻擋層經成為Low-E鍍膜行業未來發展方向的共識。
本申請人調查發現,隨著中國所生產的Low-E玻璃越來越多的出口到國外,國外客戶對高質量的高透雙銀以及三銀low-E需求量激增。而且一個多月的海上運輸,要求鍍膜玻璃具有較高的耐濕熱性能。因此從鍍膜材料角度,開發出具有高度濕熱穩定性的ZnO材料,將有助于進一步提升Low-E膜系Ag層的穩定性,可以提升我國Low-E鍍膜行業的產品競爭力。
針對ZnO/Ag/ZnO體系以及單層的ZnO薄膜的濕熱以及高溫環境穩定性,國內外的研究者開展了大量的研究:
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