[發(fā)明專利]一種陶瓷鏡子及制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810916133.1
• 申請(qǐng)日: 2018-08-13
• 公開（公告）號(hào): CN109097738B
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖海勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長沙中海瑞超硬材料技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/18
• 分類號(hào): C23C14/18;C23C14/08;C23C14/12;A45D42/08
• 代理公司: 北京成實(shí)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11724
• 代理人: 張焱

1.一種陶瓷鏡子的制作方法，其特征在于：包括以下步驟：1）生坯：成形的生坯通過脫脂、燒結(jié)后制成深色陶瓷基板；

2）砂輪粗磨：采用120目和400目的金剛石砂輪在平面磨床上對(duì)步驟1）的氧化鋯陶瓷基板進(jìn)行兩次粗磨；第一次粗磨采用的金剛石砂輪的目數(shù)小于第二次粗磨采用的金剛石砂輪的目數(shù)；

3）CNC加工：在精雕機(jī)上使用200~1000目金剛石磨頭對(duì)步驟2）的氧化鋯陶瓷基板的外形和孔形位進(jìn)行加工；

4）砂輪半精磨：采用800~2000目砂輪對(duì)步驟3）的氧化鋯陶瓷進(jìn)行半精磨，去除粗磨的深劃痕，降低砂輪鏡面磨削的難度；

5）砂輪精磨：采用6000~10000目砂輪對(duì)步驟4）的氧化鋯陶瓷進(jìn)行鏡面磨削，使氧化鋯陶瓷被加工表面達(dá)到鏡面的光潔度效果；

6）拋光：在雙面研磨機(jī)上對(duì)步驟5）的氧化鋯陶瓷雙面拋光；上、下盤使用8mm長毛毯，加80~200nm粒徑的氧化硅懸浮拋光液，去除鏡面磨削的細(xì)微劃痕，光潔度效果進(jìn)行完善和平面度加工，表面光潔度達(dá)到 Ra:1nm ，平面度0.25mm；

7）烘烤：鏡面拋光后的氧化鋯陶瓷基板超聲清洗后在高溫烘箱中進(jìn)行烘烤，溫度在200~300度，烘烤20~40分鐘；

8）清洗：高溫烘烤后的氧化鋯陶瓷基板，使用RS-618陶瓷專用清洗劑常溫下超聲波清洗10分鐘,再用過濾后的高純水超聲波清洗，完全去除材料表面的夾雜、污垢和油污；

9）過渡涂層：在步驟8）的氧化鋯陶瓷基板的拋光加工面，附著一層15~25nm的Cr₂O₃過渡涂層；

10）鏡像涂層：在Cr₂O₃涂層上，附著一層40~100nm的鏡像涂層；

11）有機(jī)涂層：在鏡像涂層表面，附著一層6~10μm厚的透明有機(jī)耐磨涂層，并進(jìn)行固化處理；

12）防指紋膜：在有機(jī)涂層的表面，附著一層10~20nm的透明的防指紋AF膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷鏡子的制作方法，其特征在于：在步驟5）中進(jìn)行鏡面磨削加工時(shí)，使用過濾后的自來水作為冷卻液，通過過濾去除自來水中10μm以上的雜質(zhì)，冷卻水一次性使用不循環(huán)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷鏡子的制作方法，其特征在于：在步驟5）中進(jìn)行鏡面磨削加工時(shí)，當(dāng)陶瓷基片在精磨工序中易出現(xiàn)形變，平面度超差時(shí)，在雙研磨機(jī)上用5~25μm金剛石砂布加軟墊進(jìn)行軟精磨，以雙面軟磨削替代步驟5）中的砂輪硬磨削，以解決單面硬磨磨削造成應(yīng)力集中使平面度超差的問題。