[發(fā)明專利]一種用于MMC的子模塊電容電壓均衡控制系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810913687.6 | 申請日: | 2018-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN109004814B | 公開(公告)日: | 2020-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王翠;朱能飛;崔曉斌;楊小品;張興旺;曾瑄;歐陽俊銘 | 申請(專利權(quán))人: | 南昌工程學院 |
| 主分類號: | H02M1/088 | 分類號: | H02M1/088;H02M1/32 |
| 代理公司: | 深圳市深軟翰琪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44380 | 代理人: | 黃美成 |
| 地址: | 330099 江西*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 mmc 模塊 電容 電壓 均衡 控制系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種用于MMC的子模塊電容電壓均衡控制系統(tǒng),包括MCU與采樣模塊;MCU包括模型解析單元、基本矢量作用時間計算單元、移相及循環(huán)控制單元、脈沖生成單元;采樣模塊采集的數(shù)據(jù)進入MCU中的模型解析單元;模型解析單元、基本矢量作用時間計算單元、移相及循環(huán)控制單元、脈沖生成單元依次連接;所述的MMC為三相模塊化多電平變換器,三相模塊化多電平變換器具有三相6個橋臂,每一個橋臂由n個子模塊級聯(lián)構(gòu)成;每一個橋臂連接有一個電感L;移相及脈沖生成單元產(chǎn)生2組脈沖分別控制MMC中的上橋臂和下橋臂。該系統(tǒng)易于控制,結(jié)構(gòu)簡潔,擴展性好,易于實施。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電力電子與自動控制領(lǐng)域中的模塊化多電平變換器(Modularmultilevel converter,簡稱MMC)的子模塊電容電壓均衡控制方法領(lǐng)域,涉及一種基于移相空間矢量調(diào)制的MMC子模塊電容電壓均衡控制系統(tǒng),特指一種在α'-β'坐標下采用循環(huán)移相空間矢量調(diào)制策略實現(xiàn)MMC子模塊電容電壓均衡的控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)
MMC作為中高壓大功率變流器的一種非常受歡迎的電路拓撲,其主要優(yōu)點如下:高度的模塊化結(jié)構(gòu),便于擴展系統(tǒng)容量和工業(yè)化生產(chǎn);無需多路隔離的直流電源和輸出變壓器,簡化了電路結(jié)構(gòu),降低了系統(tǒng)損耗;用低耐壓開關(guān)器件實現(xiàn)高壓多電平輸出,改善了輸出波形,降低了開關(guān)損耗;易于實現(xiàn)冗余控制,具有良好的可維護性、故障穿越及恢復能力。
MMC拓撲的輸入端采用公共直流母線,將能量分散存儲在各個子模塊的懸浮電容中,為了實現(xiàn)多電平輸出,串聯(lián)在同一橋臂上的各個子模塊采用分時導通或關(guān)斷控制,由于器件參數(shù)的離散性及不一致性,很容易導致電容電壓不平衡現(xiàn)象,嚴重時將出現(xiàn)部分子模塊的電容電壓過髙,造成系統(tǒng)過壓保護,甚至器件損壞等問題。因此,保持橋臂內(nèi)所有子模塊的電容電壓平衡是MMC控制的首要目標之一。
針對MMC儲能電容均壓控制,目前主要有分布式和集中式兩類控制方法。分布式電壓平衡控制是通過對各子模塊電容電壓進行獨立的閉環(huán)調(diào)節(jié)而實現(xiàn)的,當MMC的串聯(lián)子模塊數(shù)量增加時,電壓采樣模塊及閉環(huán)調(diào)節(jié)模塊的數(shù)量隨之增加,將導致系統(tǒng)硬件成本大大提高,控制系統(tǒng)非常復雜,實現(xiàn)難度增加。
集中式電壓均衡控制(又稱排序算法)即對同一橋臂所有子模塊的電容電壓進行周期釆樣和排序,然后結(jié)合橋臂電流的方向和各個子模塊的當前狀態(tài)來選擇合適的子模塊進行導通和關(guān)斷控制。當MMC的串聯(lián)子模塊數(shù)量增加時,將給控制系統(tǒng)帶來沉重的計算負擔,甚至有可能限制MMC的最高等效開關(guān)頻率。因此,這種方法不適合模塊數(shù)很多的MMC系統(tǒng)。
基于開環(huán)的循環(huán)分配PWM信號的集中式電容電壓平衡控制方法如載波移相脈沖寬度調(diào)制(Carrier Phase Shifted Pulse-Width Modulation,簡稱CPSPWM)方法可以避免對各個子模塊電容電壓的周期采樣。由于采用CPSPWM時各個子模塊交替輸出,電容能量分布比較均衡,因此能較好的實現(xiàn)電容電壓均衡控制。但是實現(xiàn)CPSPWM需要大量的調(diào)制比較單元,當MMC的子模塊數(shù)量很多時尤其突出。
與載波移相調(diào)制方法相比,空間矢量調(diào)制(Space Vector Pulse-WidthModulation,簡稱SVPWM)方法具有開關(guān)頻率低、直流電壓利用率高、輸出波形諧波含量較小、易于數(shù)字實現(xiàn)等優(yōu)點受到許多專家學者的關(guān)注。但SVPWM方法被用于多電平變流器時,隨著電平數(shù)的增加,基本矢量數(shù)量大大增加,冗余開關(guān)狀態(tài)矢量也大大增加,開關(guān)狀態(tài)矢量的選擇及其作用時間計算極為復雜,導致SVPWM方法實現(xiàn)困難,特別是用于MMC的調(diào)制時,很難實現(xiàn)子模塊電容電壓均衡控制,因此SVPWM方法很不適合應(yīng)用于MMC。
因此,有必要設(shè)計一種新的MMC電容電壓均衡控制系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于MMC的子模塊電容電壓均衡控制系統(tǒng),該控制系統(tǒng)涉及的計算量小,易于實施。
發(fā)明的技術(shù)解決方案如下:
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