[發(fā)明專利]一種大尺寸鉭酸鋰襯底片背面粗糙度的干式加工方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810908312.0 | 申請日： | 2018-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN109015394A | 公開（公告）日： | 2018-12-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 歸歡煥;沈浩;朱海瀛;顧鑫怡 | 申請（專利權）人： | 天通控股股份有限公司 |
| 主分類號： | B24C1/08 | 分類號： | B24C1/08;B24C3/22;B24C5/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 314412 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 襯底片 粗糙度 鉭酸鋰 雙面研磨 背面 干式加工 加工 噴射處理裝置 磨料 粗糙度偏差 旋轉加工臺 不良問題 加工效率 磨料粉末 細粉加工 拋光 傳統(tǒng)的 放入 減薄 去除 噴射 | ||
1.一種大尺寸鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，將經采用3μm～50μm的磨料進行雙面研磨后的鉭酸鋰基片放入旋轉加工臺的工件位中，利用噴射處理裝置將磨料粉末噴射到鉭酸鋰基片的加工面上以達到所需的粗糙度，具體步驟如下：
（1）將雙面研磨的鉭酸鋰基片放入旋轉加工臺；
（2）將旋轉加工臺以逆時針方向旋轉，轉速在20 rpm～50 rpm；
（3）將磨料粉末噴槍設置在90°、180°和270°三個位置，而且分別以30～60次/min的速度來回移動。
2.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，磨料為碳化硅、剛砂、氧化鋁、玻璃砂、石英砂、樹脂砂、核桃砂。
3.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，工件位的孔深大于鉭酸鋰基片的厚度0.1mm～1mm。
4.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，磨料粉末噴槍的槍口口徑為10 mm～20 mm。
5.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，磨料粉末噴槍的噴射壓力為0.12 MPa～0.60 MPa。
6.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，磨料粉末粒度為#1000～#8000。
7.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，噴槍與鉭酸鋰之間的距離為5mm～100mm。
8.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，噴射角度為1°～90°。
9.根據權利要求1所述的鉭酸鋰基片背面粗糙度的干式加工方法，其特征在于，所達到的效果為：平均粗糙度Ra0.15μm～0.20μm；面內偏差為0.05μm。
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