[發(fā)明專利]發(fā)聲器件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810903710.3
• 申請(qǐng)日: 2018-08-09
• 公開（公告）號(hào): CN109195078B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳極超;張帆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瑞聲科技（新加坡）有限公司
• 主分類號(hào): H04R9/02
• 分類號(hào): H04R9/02;H04R9/06
• 代理公司: 廣東廣和律師事務(wù)所 44298
• 代理人: 陳巍巍

1.一種發(fā)聲器件，其包括振動(dòng)系統(tǒng)、磁路系統(tǒng)以及具有收容空間的盆架，所述振動(dòng)系統(tǒng)和所述磁路系統(tǒng)收容在所述收容空間內(nèi)，所述盆架包括相對(duì)設(shè)置的上表面與下表面、連接所述上表面與所述下表面的外側(cè)面、以及與所述外側(cè)面相對(duì)設(shè)置的內(nèi)側(cè)面，所述內(nèi)側(cè)面圍成所述收容空間；其特征在于，所述磁路系統(tǒng)包括安裝在所述盆架的磁碗，所述磁碗包括底板以及自所述底板彎折延伸的側(cè)板，所述側(cè)板與所述內(nèi)側(cè)面相對(duì)設(shè)置，所述發(fā)聲器件還包括自所述內(nèi)側(cè)面朝所述收容空間內(nèi)延伸的支撐板，所述支撐板包括自所述內(nèi)側(cè)面延伸且相對(duì)設(shè)置的上延伸面與下延伸面、以及連接所述上延伸面與所述下延伸面的端面，所述端面與所述內(nèi)側(cè)面相對(duì)；所述磁碗還包括自所述側(cè)板朝所述內(nèi)側(cè)面方向延伸的第一凸塊和第二凸塊，所述第一凸塊正對(duì)所述端面，所述端面朝所述內(nèi)側(cè)面方向凹陷形成有凹槽，所述第一凸塊對(duì)應(yīng)收容在所述凹槽，所述第二凸塊抵接所述上延伸面及所述下延伸面中的至少一個(gè)；所述底板呈矩形，所述側(cè)板沿所述底板的長(zhǎng)邊方向延伸形成，所述第一凸塊相對(duì)所述側(cè)板的高度小于所述第二凸塊的高度，所述第一凸塊沿所述長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度大于所述第二凸塊的長(zhǎng)度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于，所述第一凸塊與所述第二凸塊間隔設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲器件，其特征在于，側(cè)板自所述底板邊緣相對(duì)的兩側(cè)對(duì)稱延伸，每一所述側(cè)板上均設(shè)置所述第一凸塊與所述第二凸塊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于，所述支撐板經(jīng)側(cè)壁靠近所述下表面的端部延伸并與所述下表面平滑連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于，所述支撐板上還設(shè)有間隔設(shè)置的多個(gè)貫通孔，所述多個(gè)貫通孔中的一個(gè)與所述第一凸塊正對(duì)并與所述凹槽間隔設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于，所述凹槽包括與所述側(cè)板正對(duì)的槽底壁以及自所述槽底壁朝靠近所述側(cè)板方向延伸的槽側(cè)壁，所述第一凸塊的相對(duì)兩端分別與所述槽側(cè)壁抵接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于，所述盆架為鐵盆架。