[發明專利]RPVD綠色鍍膜工藝有效
| 申請號: | 201810897720.0 | 申請日: | 2018-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN108914069B | 公開(公告)日: | 2020-07-31 |
| 發明(設計)人: | 盧小偉 | 申請(專利權)人: | 寧波威霖住宅設施有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
| 地址: | 315722 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | rpvd 綠色 鍍膜 工藝 | ||
本發明公開了一種RPVD綠色鍍膜技術,包括以下步驟:步驟一、對金屬基體進行拋光或拉絲;步驟二、對金屬基體進行除蠟、除油、除銹清洗;步驟三、將清洗后的工件轉入真空爐內,抽氣至本底真空后進行輝光清洗或離子源清洗,然后依次采用離子鍍沉積第一金屬鉻層,采用中頻磁控濺射沉積第二金屬鉻層,采用中頻磁控濺射沉積CrMe層,采用中頻反應濺射沉積CrC/MeC層;步驟四、沉積完成后,將工件出爐;步驟五、工件降溫至室溫后,表面進行噴透明漆/粉處理。本發明將四步沉積相結合,在金屬基體表面通過較短時間形成厚度及顏色均勻的黑色涂層,易控制,生產工藝穩定,良品率高,能夠滿足沒有廢水排放的要求,達到環境友好的積極效果。
技術領域
本發明涉及表面處理技術領域,尤其涉及一種采用真空鍍黑色涂層的RPVD綠色鍍膜技術。
背景技術
隨著國家對電鍍污染控制的提高和人民環保意識的增強,目前傳統水電鍍行業正面臨著重新整頓和技術革新。與此同時,一些新的環保型表面處理技術正迅速發展,產品已能夠做到與傳統水電鍍一樣甚至還要優異的性能效果。
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition簡稱PVD)技術作為一種零污染且日趨成熟的表面處理工藝已廣泛應用于太陽能、刀具、五金、電子等行業。深黑色涂層不論作為單一裝飾涂層,還是作為復合裝飾涂層中的一種顏色都有著廣泛的應用。目前常用的黑色裝飾涂層工藝多采用TiC、CrC、TiNC、DLC等,沉積時間在70min-120min不等,其中TiC是最常見、最經濟的一種黑色涂層,顏色可以做到較深,但色調不夠純正,黑中略帶黃色;CrC黑色涂層總體色調優于TiC涂層,但其膜層應力較大;TiCN黑色涂層顏色較TiC更黑,防指紋能力也很好,但觸感不夠光滑;DLC涂層顏色純正,硬度也較高,但其沉積速率緩慢。
因此,本領域的技術人員致力于提供一種顏色黑度深且純正、膜層沉積速度快的真空鍍膜方法,即一種綠色環保的RPVD(Rapid Physical Vapor Deposition)鍍膜技術。
發明內容
有鑒于現有技術的上述缺陷,本發明所要解決的技術問題是現有技術中表面涂層沉積速率慢且色調不純的缺點。
為實現上述目的,本發明提供了一種RPVD(Rapid Physical Vapor Deposition)綠色鍍膜技術,該方法包括以下步驟:
步驟一、對金屬基體進行拋光或拉絲;
步驟二、對金屬基體進行除蠟、除油、除銹清洗;
步驟三、將清洗后的工件轉入真空爐內,抽氣至本底真空后進行輝光清洗或離子源清洗,然后依次采用離子鍍沉積第一金屬鉻層,采用中頻磁控濺射沉積第二金屬鉻層,采用中頻磁控濺射沉積CrMe層,采用中頻反應濺射沉積CrC/MeC層,其中,Me為Ti、Al、Si中的一種或幾種;
步驟四、沉積完成后,關閉系統,待爐內降溫至100℃以下后通入空氣,開爐腔門,將工件出爐。
步驟五、工件出爐降溫至室溫后,對工件表面進行噴透明漆/粉處理。
進一步地,在步驟三中進行清洗操作時,先將真空爐內抽氣至本體真空,真空度為5.0~ 8.0×10-3Pa,隨后通入惰性氣體,在真空度達到1.0Pa~3.0Pa時開啟偏壓電源對工件表面進行輝光清洗或離子源清洗,輝光清洗時的偏壓為500-1500V,占空比為40%~80%,電流為0.1~ 1.0A。
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