[發明專利]一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法在審
| 申請號: | 201810896822.0 | 申請日: | 2018-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN108917803A | 公開(公告)日: | 2018-11-30 |
| 發明(設計)人: | 司金海;陳濤;閆理賀;黃鳳勤;李凱迪;牛震;侯洵 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01D5/353 | 分類號: | G01D5/353 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 徐文權 |
| 地址: | 710049 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 耐高溫光纖光柵 傳感器 金屬涂層光纖 刻寫 貼片式 涂覆層 制備 去除 分布式測量 金屬涂覆層 強電磁輻射 飛秒激光 高溫高壓 區域利用 蓋板 單點 可用 | ||
1.一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,將金屬涂層光纖一段去除涂覆層,在剝去涂覆層的區域利用激光刻寫耐高溫光纖光柵,刻寫耐高溫光纖光柵后對去除涂覆層部分進行保護,再將刻寫好的耐高溫光纖光柵放于帶有凹槽的基片上,耐高溫光纖光柵位于凹槽中,然后將兩端有金屬涂覆層的區域固定在基片上,最后將蓋板固定在基片上形成貼片式耐高溫光纖光柵傳感器,在該貼片式耐高溫光纖光柵傳感器的前或后設定距離的金屬涂層光纖處,制備若干貼片式耐高溫光纖光柵傳感器,所制備的貼片式耐高溫光纖光柵傳感器組成分布式耐高溫光纖光柵傳感器。
2.根據權利要求1所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
1)將金屬涂層光纖上一段長度為1cm-2cm部分的涂覆層去除;
2)利用激光在去除金屬涂覆層部分的光纖內刻寫耐高溫光纖光柵;
3)將去除金屬涂覆層的部分重新涂覆上金屬涂層或者進行金屬化封裝,對耐高溫光纖光柵進行保護;
4)將制備好的耐高溫光纖光柵放置在基片的凹槽位置處,耐高溫光纖光柵兩端有金屬涂覆層的區域固定在基片上;
5)將蓋板蓋在基片上方并固定在基片上,構成貼片式耐高溫光纖光柵傳感器;
6)在貼片式耐高溫光纖光柵傳感器的前或后設定距離的金屬涂層光纖處,制備若干貼片式耐高溫光纖光柵傳感器,所制備的貼片式耐高溫光纖光柵傳感器組成分布式耐高溫光纖光柵傳感器。
3.根據權利要求2所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中刻寫的耐高溫光纖光柵為超短飛秒脈沖激光器刻寫的Type I型、Type II型,或者是利用長脈沖激光器刻寫的再生光柵。
4.根據權利要求3所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,所述的再生光柵為Type IIa型和熱再生中的一種。
5.根據權利要求2所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,步驟3)中重新涂覆金屬涂層采用的方式為電鍍、化學鍍或二者結合的方式。
6.根據權利要求2所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,所述基片為金屬基片或陶瓷基片。
7.根據權利要求6所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,當采用金屬基片時,采用激光焊接的方法將耐高溫光纖光柵兩端有金屬涂覆層的區域固定在基片上;當采用陶瓷基片時,采用耐高溫膠粘接的方法將耐高溫光纖光柵兩端有金屬涂覆層的區域固定在基片上。
8.根據權利要求2所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,所述的金屬涂層光纖的金屬涂層材料為鋁、銅或金。
9.根據權利要求2所述的一種基于金屬涂層光纖的分布式耐高溫光纖光柵傳感器的制備方法,其特征在于,步驟5)中將蓋板蓋在基片上方并采用螺絲或焊接或耐高溫膠粘接的方式固定在基片上。
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