[發(fā)明專利]拋光墊及其制備方法、應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810896688.4 | 申請(qǐng)日： | 2018-08-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN110815037B | 公開（公告）日： | 2021-07-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 朱順全;車麗媛;張季平;吳曉茜 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 湖北鼎龍控股股份有限公司;湖北鼎匯微電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B24B37/20 | 分類號(hào)： | B24B37/20;B24B37/24;B24B37/26;B24D18/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 430057 湖北省武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 拋光 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種拋光墊的制備方法，其特征在于，所述拋光墊具有拋光層，所述拋光層具有中心拋光區(qū)、環(huán)繞所述中心拋光區(qū)依次設(shè)置的一個(gè)或一個(gè)以上的中間拋光區(qū)以及環(huán)繞所述中間拋光區(qū)設(shè)置的外緣拋光區(qū)，且所述中心拋光區(qū)為圓形，所述中間拋光區(qū)為環(huán)形，所述外緣拋光區(qū)為環(huán)形；所述拋光層的肖氏硬度沿所述中心拋光區(qū)至所述外緣拋光區(qū)的方向依次減小，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)肖氏硬度梯度為0.5-5D；
所述拋光層的原料包括如下質(zhì)量份數(shù)的各組分：100份的異氰酸酯封端的預(yù)聚物、20-25份的固化劑和1.7-2.6份的中空微球體；
所述制備方法使用的模具具有與所述拋光墊的結(jié)構(gòu)尺寸對(duì)應(yīng)的圓環(huán)側(cè)壁，所述制備方法包括如下步驟：
(1)將能夠制得對(duì)應(yīng)硬度的拋光區(qū)的澆注組合物澆注至模具的最內(nèi)圈圓環(huán)側(cè)壁圍成的內(nèi)腔中，固化，脫模，表面打磨，得圓柱塊體；
(2)將步驟(1)所得的圓柱塊體置于與所述最內(nèi)圈圓環(huán)側(cè)壁相鄰的圓環(huán)側(cè)壁內(nèi)，并與所述相鄰的圓環(huán)側(cè)壁形成環(huán)狀內(nèi)腔，再向所述環(huán)狀內(nèi)腔內(nèi)澆注能夠制得對(duì)應(yīng)硬度的拋光區(qū)的澆注組合物，固化，脫模，表面打磨，得圓柱塊體；
(3)以此類推，依次澆注直至最外圈圓環(huán)側(cè)壁與前次固化所得的圓柱塊體之間形成的環(huán)狀內(nèi)腔內(nèi)的澆注組合物完成固化，脫模，表面打磨，即得固化塊體；
(4)將所述固化塊體進(jìn)行切片，即得一體成型拋光墊。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)肖氏硬度梯度為0 .6-3D。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)肖氏硬度梯度為1-3D。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)肖氏硬度梯度為0.6-1.6D。
5.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)肖氏硬度梯度為0.7D、0.8D、0.9D、1D、1.1D、1.2D、1.3D、1.4D或1.5D。
6.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，各拋光區(qū)的肖氏硬度為40-70D；
和/或，所述中心拋光區(qū)的肖氏硬度為60-70D；
和/或，所述外緣拋光區(qū)的肖氏硬度為40-60D。
7.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，各拋光區(qū)的肖氏硬度為58-65D。
8.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述外緣拋光區(qū)的肖氏硬度為57.8-58.6D。
9.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述中心拋光區(qū)的肖氏硬度為60-70D，所述外緣拋光區(qū)的肖氏硬度為57.8-58.6D，相鄰兩個(gè)拋光區(qū)的肖氏硬度梯度為0.6-1.6D。
10.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述中間拋光區(qū)的數(shù)量為4-13個(gè)。
11.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述中間拋光區(qū)的數(shù)量為4-8個(gè)。
12.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述中間拋光區(qū)的數(shù)量為6-8個(gè)。
13.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述拋光墊的直徑為50-90cm。
14.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述拋光墊的直徑為60-100cm。
15.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述拋光墊的直徑為70-85cm。
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