[發(fā)明專利]改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu)及免疫微流控芯片在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810895030.1 | 申請日: | 2018-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN110813393A | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳燁嫻;吳永進;陳兢 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州含光微納科技有限公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00;G01N33/53 |
| 代理公司: | 北京君尚知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11200 | 代理人: | 邱曉鋒 |
| 地址: | 215123 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 改善 流速 液體 流動 界面 結(jié)構(gòu) 免疫 微流控 芯片 | ||
1.一種改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
一窄流道及一寬流道,二者之間通過多級漸變流道連通;
所述寬流道內(nèi)設有沿流道中心向兩側(cè)間距遞增分布的多列微柱。
2.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述多級漸變流道包括依次連通的一級流道,由一級流道分流的若干二級流道,由各二級流道分流的三級流道,……直至由各n-1級流道分流的n級流道。
3.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,被分流的上一級流道與分流后的下一級流道的截面關(guān)系為:總截面積相同或單個流道截面積遞減。
4.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,各級流道中同一級流道的截面面積相同。
5.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流道逐級分流遵循的規(guī)律為:保持位于各級流道中間區(qū)域的流道液體分配量大于外側(cè)流道的液體流量。
6.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述位于中間區(qū)域的各列微柱之間的間距范圍為80-150μm;向兩側(cè)間距遞增的各列微柱之間的間距與分布于中心區(qū)域的各列微柱之間的間距的比例為1.2-1.5∶1。
7.如權(quán)利要求1所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述微柱的截面形狀選自:矩形;菱形;橢圓形;圓形。
8.一種免疫微流控芯片,具有權(quán)利要求1至7任一項所述的改善低流速液體流動界面的結(jié)構(gòu)。
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