[發明專利]雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置

在審

• 申請號: 201810893345.2
• 申請日: 2018-08-07
• 公開（公告）號: CN108624861A
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 嚴佐毅;劉文卿
• 申請（專利權）人: 安徽金美新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 葉樹明

1.一種雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，其包括真空腔體(1)、設置在真空腔體(1)內的轉向輥機構(2)和兩組蒸鍍機構(3)，所述兩組蒸鍍機構(3)上下對稱設置，所述轉向輥機構(2)設置兩組蒸鍍機構(3)的一側，待蒸鍍的薄膜沿一組所述蒸鍍機構(3)進入經所述轉向輥機構(2)后沿另一組所述蒸鍍機構(3)用于連續對薄膜的上下兩面進行真空蒸鍍。

2.根據權利要求1所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍機構(3)包括卷繞組件(31)、冷卻組件(32)和蒸發組件(33)，所述卷繞組件(31)和冷卻組件(32)依次排列，所述蒸發組件(33)元設置在冷卻組件(32)的底部，所述轉向輥機構(2)設置兩組蒸鍍機構(3)的卷繞組件(31)的一側；所述卷繞組件(31)用于收卷、放卷以及傳送薄膜，所述冷卻組件(32)用于在蒸鍍過程中降低薄膜表面的溫度，所述蒸發組件(33)用于在薄膜表面蒸鍍金屬鍍層。

3.根據權利要求2所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述卷繞組件(31)包括收放卷(311)、擺架單元(312)，所述收放卷(311)用于收卷或者放卷待蒸鍍的薄膜；所述擺架單元(312)包括架體(313)、跟隨輥(314)、展平輥(315)和引導輥(316)，所述跟隨輥(314)、展平輥(315)和引導輥(316)依次設置在架體(313)上，所述跟隨輥(314)靠近收放卷(311)設置，所述引導輥(316)靠近冷卻單元(32)設置；所述架體(313)繞引導棍(316)所在的中心轉動用于帶動跟隨輥(314)與收放卷(311)上的薄膜的膜面最外層保持固定的距離。

4.根據權利要求3所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述跟隨輥(314)、展平輥(315)和引導輥(316)均設置至少一個。

5.根據權利要求3所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述冷卻組件(32)包括冷卻主鼓(321)、前展平輥(322)、后展平輥(323)，所述前展平輥(322)和后展平輥(323)分別設置在冷卻主鼓(321)的兩側。

6.根據權利要求4所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述展平輥(315)、前展平輥(322)和后展平輥(323)均采用彎輥、膠條輥、多段輥或者開幅輥。

7.根據權利要求4所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述展平輥(315)、前展平輥(322)和后展平輥(323)均采用光面過輥或者毛面過輥。

8.根據權利要求2所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發組件(33)采用電阻式蒸發、中頻感應坩堝蒸發或電子束蒸發。

9.根據權利要求2所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述轉向輥機構(2)包括第一過輥(21)、第二過輥(22)、第三過輥(23)，所述第一過輥(21)和第三過輥(23)靠近分別設置在兩組蒸鍍機構(3)的冷卻組件(32)的一側，所述第二過輥(22)設置在第一過輥(21)和第三過輥(23)之間。

10.根據權利要求1-9任意一項所述的雙面連續鍍膜的真空蒸鍍裝置，其特征在于，其還包括第一觀察視窗(4)和第二觀察視窗(5)，所述第一觀察視窗(4)和第二觀察視窗(5)設置在真空腔體(1)上分別用于觀察兩組蒸鍍機構(3)的工作狀態。