[發(fā)明專利]同位素測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810891036.1 | 申請日: | 2018-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN109387482A | 公開(公告)日: | 2019-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J-B·西爾旺 | 申請(專利權(quán))人: | 原子能和能源替代品委員會 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25;G01N21/73 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 譜線 光譜 等離子體 同位素比率 同位素測量 測量步驟 測量 波長 等離子體發(fā)射 光譜儀 材料施加 激光光束 一次分析 平衡點(diǎn) 施加 發(fā)射 | ||
1.一種測量方法,其測量在包括多種元素的材料中存在的所關(guān)注的元素的同位素比率,所述測量方法包括以下步驟:
-施加步驟(100),其向材料施加至少一個(gè)激光光束(3)從而產(chǎn)生等離子體(5),所述等離子體能夠發(fā)射光譜(11),所述光譜(11)包括由材料的元素發(fā)射的多個(gè)譜線;以及
-測量步驟(200),其在施用步驟(100)后相繼實(shí)施,并且能夠測量由所關(guān)注的元素發(fā)射的至少一個(gè)所關(guān)注的譜線(21)的輪廓,所述測量步驟包括通過光譜儀(8)對由等離子體(5)發(fā)射的光譜(11)實(shí)施至少一次分析;確立
所述測量方法的特征在于,其進(jìn)一步包括:
-處理步驟(300),其在測量步驟(200)后相繼實(shí)施,并且能夠根據(jù)所關(guān)注的譜線(21)的所測量的輪廓而確立最佳波長(λ1,2),當(dāng)所述輪廓具有雙鐘形的自吸收輪廓時(shí),所述最佳波長對應(yīng)于穩(wěn)定平衡點(diǎn)(Pst),所述穩(wěn)定平衡點(diǎn)對應(yīng)于雙鐘之間的凹陷;或者,當(dāng)輪廓為單鐘形時(shí),所述最佳波長對應(yīng)于不穩(wěn)定平衡點(diǎn)(Pinst),所述不穩(wěn)定平衡點(diǎn)對應(yīng)于鐘形輪廓的頂點(diǎn);以及
-確定步驟(400),其在處理步驟(300)后相繼實(shí)施,并且能夠根據(jù)所標(biāo)記出的最佳波長(λ1,2)而確定同位素比率(Iso1/Iso2),所述確定步驟包括與給定元素的同位素比率(Iso1/Iso2)和最佳波長(λ1,2)之間的相關(guān)性函數(shù)相比較的步驟(410),或者包括實(shí)施多變量方法的步驟(420)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法,所述測量方法在施加步驟(100)之前包括通過例如激光發(fā)生器的發(fā)射裝置而發(fā)射激光光束的步驟(50),所述激光光束的發(fā)射以脈沖的形式實(shí)施。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中的任一項(xiàng)所述的測量方法,所述測量步驟(200)能夠測量由等離子體(5)發(fā)射的光譜(11)的多個(gè)譜線中的全部或部分的輪廓。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的測量方法,其包括預(yù)選擇步驟(150),所述預(yù)選擇步驟在測量步驟(200)之前,并且能夠預(yù)選擇對應(yīng)于所關(guān)注的元素的至少一個(gè)譜線輪廓。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測量方法,所述預(yù)選擇步驟(150)通過選出對應(yīng)于所關(guān)注的元素的至少一個(gè)測量光譜帶而實(shí)施。
6.根據(jù)權(quán)利要求4和5中的任一項(xiàng)所述的測量方法,所述預(yù)選擇步驟(150)通過使用譜線與元素之間的對應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫而實(shí)施。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中的任一項(xiàng)所述的測量方法,所述測量步驟(200)包括使光譜儀的中央位于至少一個(gè)預(yù)選擇的譜線輪廓上的步驟,例如在至少一個(gè)預(yù)選擇的測量光譜帶中。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的測量方法,其包括后選擇步驟(250),所述后選擇步驟在測量步驟(200)之后實(shí)施,并且能夠從多個(gè)測量的譜線中選出對應(yīng)于所關(guān)注的元素的所關(guān)注的譜線(21)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的測量方法,所述后選擇步驟(250)通過使用譜線與元素之間的對應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫而實(shí)施。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的測量方法,通過檢視所測量的譜線的輪廓,并且對于所關(guān)注的元素選出所關(guān)注的譜線(21)的輪廓,而實(shí)施所述后選擇步驟(250)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項(xiàng)所述的測量方法,所關(guān)注的譜線(21)的輪廓具有在雙鐘之間帶有吸收凹陷的雙鐘形形狀,所述處理步驟(300)包括確立對應(yīng)于凹陷的最低點(diǎn)的所述輪廓的穩(wěn)定平衡點(diǎn)(Pst)的步驟(310)。
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





