[發(fā)明專利]用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810890226.1 | 申請日: | 2018-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN109051453A | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳昊;鄭鵬;張文坤;谷琳 | 申請(專利權)人: | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號: | B65F1/16 | 分類號: | B65F1/16;B65F9/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 100038*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢修孔 蓋板裝置 給料平臺 密封結構 鋼蓋板 垃圾 配合 有效地減少 密封連接 有效密封 臭氣 密封 匹配 鄰近 | ||
本發(fā)明公開了一種用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置,所述垃圾給料平臺上設有檢修孔,所述檢修孔與所述蓋板裝置密封連接,所述蓋板裝置包括:鋼蓋板本體,所述鋼蓋板本體適于蓋設在所述檢修孔上;配合部,所述配合部與所述鋼蓋板本體相連;檢修孔密封結構,所述檢修孔密封結構設在所述垃圾給料平臺上并鄰近所述檢修孔設置,且所述檢修孔密封結構與所述配合部相匹配以密封所述檢修孔。根據(jù)本發(fā)明的用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置,通過檢修孔密封結構與所述配合部的配合,可以有效密封鋼蓋板本體和檢修孔之間的縫隙,有效地減少和防止臭氣外逸。
技術領域
本發(fā)明涉及環(huán)保技術領域,特別是涉及一種用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置。
背景技術
相關技術中,生活垃圾在垃圾倉內(nèi)堆存、裝卸、倒運、加料、焚燒以及滲瀝液收集過程中會產(chǎn)生惡臭氣體污染環(huán)境,屬于無組織排放。垃圾倉內(nèi)要求垃圾至少儲存5天以上,垃圾倉內(nèi)有機物發(fā)酵產(chǎn)生污濁空氣,主要污染因子為H2S、NH3、甲硫醇等。為使污濁空氣不外逸,垃圾倉設計成全封閉式。含有臭氣的空氣被焚燒爐一次風機從垃圾倉上部的吸風口吸出,作為燃燒空氣送入焚燒爐,在爐內(nèi)臭氣污染物被燃燒、氧化、分解,同時使垃圾倉內(nèi)形成負壓。
然而,垃圾給料平臺的檢修蓋板均為鋼制蓋板,直接放置在檢修孔上,僅靠鋼蓋板與混凝土面的接觸,接觸面之間會有縫隙(參照附圖7),無法做到完全密封。若垃圾倉負壓控制不好,垃圾倉內(nèi)的臭氣可以通過蓋板的縫隙泄漏至垃圾倉外,影響焚燒車間的生產(chǎn)環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一。為此,本發(fā)明提出一種用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置,所述用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置可以實現(xiàn)對檢修孔的有效密封。
根據(jù)本發(fā)明實施例的用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置,所述垃圾給料平臺上設有檢修孔,所述檢修孔與所述蓋板裝置密封連接,所述蓋板裝置包括:鋼蓋板本體,所述鋼蓋板本體適于蓋設在所述檢修孔上;配合部,所述配合部與所述鋼蓋板本體相連;檢修孔密封結構,所述檢修孔密封結構設在所述垃圾給料平臺上并鄰近所述檢修孔設置,且所述檢修孔密封結構與所述配合部相匹配以密封所述檢修孔。
根據(jù)本發(fā)明實施例的用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置,通過檢修孔密封結構與所述配合部的配合,可以有效密封鋼蓋板本體和檢修孔之間的縫隙,有效地減少和防止臭氣外逸。
另外,根據(jù)本發(fā)明上述實施例的用于垃圾給料平臺檢修孔的蓋板裝置還具有如下附加的技術特征:
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述檢修孔密封結構為形成于所述檢修孔的外周且向上凸出的環(huán)形凸起。
進一步地,所述檢修孔密封結構上形成有向下凹陷的容納槽,所述配合部與所述容納槽相匹配。
進一步地,當所述配合部配合在所述容納槽內(nèi)時,所述容納槽內(nèi)注滿水形成水封以減少垃圾倉內(nèi)的臭氣外泄。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述配合部設在所述鋼蓋板本體的底部,且所述配合部與所述鋼蓋板本體焊接。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述配合部設在所述鋼蓋板本體的外周,且所述配合部與所述鋼蓋板本體焊接。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述配合部為扁鋼,所述扁鋼與所述鋼蓋板本體焊接。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述檢修孔設在所述垃圾給料平臺的至少一端。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述檢修孔被構造成四邊形,所述檢修孔每一側的檢修孔密封結構的高度為100mm,寬度為250~300mm。
具體地,所述容納槽的深度為100mm。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實踐了解到。
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