[發(fā)明專利]光阻涂布裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810880682.8
• 申請日: 2018-08-04
• 公開（公告）號: CN108957957A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 伍先春
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明提供一種光阻涂布裝置，包括光阻涂布機構(gòu)以及兩個清理機構(gòu)；所述光阻涂布機構(gòu)包括光阻存儲器以及設(shè)置于所述光阻存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側(cè)壁面與該光阻存儲器連接，該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的涂布槽，該光阻涂布機構(gòu)本體的兩個相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動槽；所述清理機構(gòu)包括滑塊、擦板、風(fēng)嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設(shè)置于所述滑動槽中，所述滑塊中設(shè)置有電機驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合，該擦板以及風(fēng)嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及材料涂布領(lǐng)域，具體涉及一種光阻涂布裝置。

背景技術(shù)

光阻涂布裝置在涂布光阻到面板上時在其上會殘留一些光阻，影響下次涂布時的質(zhì)量，可能產(chǎn)生不良產(chǎn)品

因此，現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷，急需改進。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例的目的是提供一種光阻涂布裝置，具有自動去除光阻殘留的效果。

本發(fā)明提供了一種光阻涂布裝置，包括光阻涂布機構(gòu)以及兩個清理機構(gòu)；

所述光阻涂布機構(gòu)包括光阻存儲器以及設(shè)置于所述光阻存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側(cè)壁面與該光阻存儲器連接，該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的涂布槽，該涂布槽從該第一側(cè)壁面處延伸至與該第一側(cè)壁面相對的側(cè)棱處，且將該側(cè)棱貫穿，該涂布槽的長度小于該涂布組件的長度；

該光阻涂布機構(gòu)本體的兩個相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動槽，該滑動槽沿著該涂布組件的長度方向延伸；

該兩個清理機構(gòu)分別設(shè)置于該兩個第二側(cè)壁面上且可沿著所述滑動槽滑動；所述清理機構(gòu)包括滑塊、擦板、風(fēng)嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設(shè)置于所述滑動槽中，所述滑塊中設(shè)置有電機驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合，該擦板以及風(fēng)嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè)。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，所述擦板的寬度為所述第二側(cè)壁面寬度的一半。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，所述擦板可沿著所述第二側(cè)壁面的寬度方向滑動地設(shè)置于該滑塊上，且該擦板上設(shè)置有鎖緊機構(gòu)，使得鎖緊時，該擦板相對該滑塊固定，解鎖時，該擦板可相對該滑塊滑動。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，所述擦板的與所述第二側(cè)壁面接觸的一面設(shè)置有彈性層。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，所述擦板的寬度為所述第二側(cè)壁面的寬度相同。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，所述側(cè)面上開設(shè)有多個沿著寬度方向延伸的用于導(dǎo)引清洗液的導(dǎo)流槽。

在本發(fā)明所述的光阻涂布裝置中，還包括控制芯片以及電池組件，該控制芯片以及電池組件均設(shè)置于所述滑塊內(nèi)，控制芯片以及電池組件分別與所述電機驅(qū)動機構(gòu)連接。