[發明專利]一種基于改進光流場模型的圖像配準方法有效
| 申請號: | 201810879723.1 | 申請日: | 2018-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN109242891B | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發明(設計)人: | 何凱;魏穎;王陽;黃婉蓉 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | G06T7/33 | 分類號: | G06T7/33;G06T5/00 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 李林娟 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 改進 光流場 模型 圖像 方法 | ||
1.一種基于改進光流場模型的圖像配準方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
構建由數據項、各向異性正則項、非局部平滑項構成的光流場模型的能量函數;
通過最小化能量函數求解位移場,對金字塔的每一層圖像求位移場,且每一層的位移場作為下一層的初始位移場,直到獲得最終的位移場;
根據獲得的最終位移場,對待配準圖像進行變化插值,獲得最終的配準圖像,實現配準;
所述各向異性正則項具體為:
式中,αg代表全局平滑因子,αl代表局部平滑因子;是關于圖像梯度的單調遞減函數;β,k為正常數,可用于控制光流的擴散速率,分別為u,v的梯度;
X=(x,y)T代表圖像空間域Ω中的某點,為懲罰函數,ε=0.001,u和v分別為光流水平位移與垂直位移。
2.根據權利要求1所述的一種基于改進光流場模型的圖像配準方法,其特征在于,所述非局部平滑項具體為:
式中,N∈Ω代表鄰域空間,與是像素點(i,j)處的位移場,與是像素點(i,j)鄰域的位移場。
3.根據權利要求2所述的一種基于改進光流場模型的圖像配準方法,其特征在于,所述wi,j,i',j'為權函數:
式中:I(Xi,j)與I(Xi',j')分別為(i,j)與(i',j')處像素點的灰度向量,W(Xi,j)與W(Xi',j')分別為(i,j)與(i',j')處像素點的位移場向量,i′與j′分別為(i,j)處像素點的鄰域像素點的橫坐標與縱坐標,∝表示成正比,σ1、σ2以及σ3均為預設值。
4.根據權利要求1所述的一種基于改進光流場模型的圖像配準方法,其特征在于,所述能量函數具體為:
E(W)=ED(W)+ES(W)+γEnl(W)
式中,ED(W)為數據項,ES(W)為各向異性正則項,Enl(W)是非局部平滑項,γ是非局部平滑項的權重系數。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津大學,未經天津大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810879723.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





