[發明專利]一種在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法在審
| 申請號： | 201810879428.6 | 申請日： | 2018-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN109056029A | 公開（公告）日： | 2018-12-21 |
| 發明（設計）人： | 陳飛;左佑;李天璐;趙子聰;蔣欣運 | 申請（專利權）人： | 北京石油化工學院 |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26;B05D7/14 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260 | 代理人： | 鄭立明;李闖 |
| 地址： | 102600 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鈦材料 氧化石墨烯 表面制備 復合膜層 微弧氧化陶瓷層 陶瓷 表面覆蓋 前處理 烘干 氧化石墨烯溶膠 微弧氧化處理 堿性電解液 放電通道 浸漬提拉 耐磨性能 微弧氧化 制備過程 微裂紋 鈦合金 清洗 環保 | ||
1.一種在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟A、對鈦材料表面進行磨拋處理，并進行清洗和烘干，得到前處理后的鈦材料；
步驟B、將所述前處理后的鈦材料置于堿性電解液中，進行微弧氧化處理，從而得到表面覆蓋有微弧氧化陶瓷層的鈦材料；
步驟C、將所述表面覆蓋有微弧氧化陶瓷層的鈦材料置于氧化石墨烯溶膠中進行浸漬提拉，然后進行烘干，從而在鈦材料表面制備出陶瓷和氧化石墨烯復合膜層。
2.根據權利要求1所述在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法，其特征在于，所述浸漬提拉的工藝參數包括：浸漬提拉的速度為1～2cm/min、浸漬時間為5～10min、間隔時間為5～10min、提拉次數為3～6。
3.根據權利要求1或2所述在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法，其特征在于，所述氧化石墨烯溶膠的濃度為0.25～1wt％。
4.根據權利要求1或2所述在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法，其特征在于，所述堿性電解液由NaOH和Na2SiO3混合而成，并且NaOH的濃度為5～15g/L，Na2SiO3的濃度為10～20g/L。
5.根據權利要求1或2所述在鈦材料表面制備陶瓷和氧化石墨烯復合膜層的方法，其特征在于，所述微弧氧化處理包括：電源的恒壓模式下電壓為320～380V、電源的頻率為500～1000Hz、電源的占空比為20～50％，微弧氧化處理時間為5～20min。
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