[發明專利]一種提高鈾酰離子選擇性吸附效率的方法

有效

• 申請號: 201810876727.4
• 申請日: 2018-08-03
• 公開（公告）號: CN109012626B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 馬紅娟;敖浚軒;徐曉;邢哲;張嵐;李晴暖;吳國忠
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海應用物理研究所
• 主分類號: B01J20/26
• 分類號: B01J20/26;B01J20/30;G21F9/12
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪;余永莉

1.一種提高鈾酰離子選擇性吸附效率的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：將含有吸附功能基團的高分子纖維或無紡布置于含鈾酰離子的溶液中，獲得吸附有鈾酰離子的高分子纖維或無紡布；

S2：將所述吸附有鈾酰離子的高分子纖維或無紡布轉移至水中，采用輻射交聯法對其進行鈾酰離子的印跡化處理，獲得鈾酰離子印跡型吸附材料，該印跡化處理通過水誘導交聯，無需額外引入交聯劑；以及

S3：將所述鈾酰離子印跡型吸附材料投入到含有鈾酰離子與其他共存離子的溶液中，所述溶液中的鈾酰離子將被選擇性吸附到所述鈾酰離子印跡型吸附材料中。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S1中的吸附功能基團包括：偕胺肟基、氨基、羧基、磺酸基或磷酸基。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述高分子纖維或無紡布為超高分子量聚乙烯纖維、聚乙烯聚丙烯纖維、高密度聚乙烯纖維、聚乙烯無紡布、聚乙烯聚對苯二甲酸乙二酯纖維或聚酰胺纖維。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述印跡化處理是指：對所述吸附有鈾酰離子的高分子纖維或無紡布進行輻照，使所述高分子纖維或無紡布上能與鈾酰離子發生配位作用的吸附功能基團在空間中固定，形成僅對鈾酰離子的空間大小和配位結構匹配的吸附位點。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述輻照為鈷源輻照或電子束輻照。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述輻照的劑量為200~300 kGy。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S2包括將所述吸附有鈾酰離子的高分子纖維或無紡布轉移至充滿蒸餾水的自封袋中進行輻射交聯。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述步驟S2還包括：在輻射交聯后，將所述吸附有鈾酰離子的高分子纖維或無紡布放入洗脫劑中混合震蕩，蒸餾水沖洗，以洗脫鈾酰離子。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述洗脫劑為0.1~0.5 mmol/L HCl溶液。

10.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述含有鈾酰離子與其他共存離子的溶液為濃縮海水、天然海水、鈾礦坑廢水或含鈾放化廢水。