[發(fā)明專利]手持式清潔設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810875872.0 | 申請日： | 2018-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN108852160A | 公開（公告）日： | 2018-11-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 喬亮;盧澤輝;羅光忠 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京石頭世紀(jì)科技有限公司 |
| 主分類號： | A47L5/24 | 分類號： | A47L5/24;A47L9/00 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務(wù)所 11336 | 代理人： | 董巍;劉明霞 |
| 地址： | 100192 北京市海淀區(qū)黑泉路8號1*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 設(shè)備主體 抽吸單元 手柄 手持式清潔設(shè)備 氣流發(fā)生裝置 過濾裝置 一體成型 部分構(gòu)件 方向偏離 視覺效果 軸線延伸 從設(shè)備 牢固性 美觀性 上端 前部 豎直 下端 向后 容納 | ||
1.一種手持式清潔設(shè)備，其特征在于，包括：
設(shè)備主體；
抽吸單元，所述抽吸單元設(shè)置在所述設(shè)備主體的前部并沿第一軸線向前突出于所述設(shè)備主體；
手柄，所述手柄直接或間接地連接在所述設(shè)備主體的后部，所述手柄沿相對于豎直方向偏離的第二軸線延伸，且所述手柄的上端比下端更靠近所述設(shè)備主體；
氣流發(fā)生裝置，所述氣流發(fā)生裝置設(shè)置在所述設(shè)備主體的下部處并從所述設(shè)備主體向后突出；以及
其中，設(shè)備主體構(gòu)造為包括具有沿豎直方向延伸的軸線的圓柱狀外殼，所述設(shè)備主體內(nèi)容納有所述手持式清潔設(shè)備的部分構(gòu)件，且所述抽吸單元的外殼與所述設(shè)備主體的外殼一體成型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，還包括過濾裝置，所述過濾裝置連接在所述氣流發(fā)生裝置的后部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，所述第二軸線延伸不通過所述氣流發(fā)生裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，所述氣流發(fā)生裝置位于所述第二軸線的前側(cè)且位于所述設(shè)備主體后側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，述第二軸線延伸通過所述過濾裝置的至少一部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，所述第一軸線和所述第二軸線之間的夾角為70°～80°。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，在所述手持式清潔設(shè)備在水平面上的投影中，所述手柄的投影位于所述過濾裝置的投影范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，在所述手持式清潔設(shè)備在水平面上的投影中，所述手柄的前端面的投影位于所述氣流發(fā)生裝置的投影范圍內(nèi)，且所述第二軸線延伸不通過所述氣流發(fā)生裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的手持式清潔設(shè)備，其特征在于，在所述手持式清潔設(shè)備在水平面上的投影中，所述手柄的投影的一部分位于所述過濾裝置的投影范圍內(nèi)，所述手柄的投影的另一部分位于所述氣流發(fā)生裝置的投影范圍內(nèi)。
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