[發明專利]覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法在審
| 申請號: | 201810864646.2 | 申請日: | 2018-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN108950495A | 公開(公告)日: | 2018-12-07 |
| 發明(設計)人: | 王朝勇;李艷華;郝世明;劉志清;黃曉亞;潘慧;路一帆;陳庚陽;馬培芳 | 申請(專利權)人: | 河南城建學院 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司: | 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 李振瑞 |
| 地址: | 467000 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復合材料 制備 太陽能 薄膜涂層 高效吸收 太陽能吸收材料 光能轉化 基材處理 設備提供 涂覆 銀膜 吸收 應用 保證 | ||
1.一種覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1,基材處理
清洗、干燥基材,獲得潔凈基材;
S2,銀膜涂覆
通過離子濺射儀在所述潔凈基材表面沉積銀膜,得到銀涂覆基材;離子濺射儀的濺射條件為:氬氣作為填充氣體,真空度為0.1MPa,電流25mA,沉積時間為15~20min;
S3,鍍TiN/TiSiN/SiN膜
銀涂覆基材在乙醇溶液中浸泡,取出后60℃烘干,得到干燥銀涂覆基材,并置于磁控濺射儀內;
采用Ti靶,以磁控濺射的方式在銀涂覆基材表面鍍TiN膜,濺射氣氛為氮氣和氬氣的混合氣體,得到TiN材料;
采用Ti靶和Si靶,以共濺射的方式在TiN材料表面鍍TiSiN膜,濺射氣氛為氮氣和氬氣的混合氣體,得到TiN/TiSiN材料;
最后采用Si靶,以磁控濺射的方式在銀涂覆基材表面鍍SiN膜,濺射氣氛為氮氣和氬氣的混合氣體,得到覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料。
2.根據權利要求1所述的覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,S1中清洗、干燥基材的具體方法如下:將基材浸泡于2mol/L的氫氧化鈉溶液中,超聲清洗10min,取出后再用清水沖洗,60℃烘干并冷卻至室溫,獲得潔凈基材。
3.根據權利要求2所述的覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,S3中乙醇溶液的體積分數為80%。
4.根據權利要求1所述的覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,S3中,磁控濺射或者共濺射采用的是MPP電源,磁控濺射或者共濺射時采用的電壓為400V,脈沖頻率為350Hz。
5.根據權利要求1所述的覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,S3中,鍍TiN膜、TiSiN膜、SiN膜的溫度均為300℃,鍍膜時間均為6min。
6.根據權利要求5所述的覆有TiN/TiSiN/SiN薄膜涂層的太陽能高效吸收復合材料的制備方法,其特征在于,S3中,氮氣和氬氣的混合氣體中,氬氣的流量為40~45sccm,氮氣的流量為20~25sccm。
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