[發(fā)明專利]一種圖像處理方法和裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810859016.6
• 申請日: 2018-07-31
• 公開（公告）號: CN109015873A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 時建華
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州詩琬家居有限公司
• 主分類號: B26F1/16
• 分類號: B26F1/16;B26D7/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種圖像處理方法和裝置，包括底板，其特征在于：所述底板頂部端面左右對稱固設(shè)有支座，左右兩側(cè)的所述支座之間設(shè)置有架體，所述架體底部端面內(nèi)設(shè)有第一滑移腔，所述第一滑移腔內(nèi)滑動配合安裝有裝固座，所述裝固座頂端面與所述第一滑移腔頂壁之間頂壓配合安裝有緩沖彈壓片，所述裝固座底部端面內(nèi)設(shè)有第一凹陷腔，所述第一凹陷腔上側(cè)的所述裝固座內(nèi)設(shè)有第一傳送腔，所述第一凹陷腔與所述第一傳送腔之間的部分轉(zhuǎn)動配合安裝有第一轉(zhuǎn)銷軸，所述第一轉(zhuǎn)銷軸頂部末端固設(shè)有第一錐狀輪，所述第一轉(zhuǎn)銷軸底部末端固設(shè)有裝固塊，所述裝固塊底部端面內(nèi)設(shè)有插口，所述插口內(nèi)插接配合安裝有鉆頭，所述鉆頭左右兩側(cè)端面內(nèi)對稱設(shè)有若干組弧狀腔，所述插口左右兩側(cè)內(nèi)壁內(nèi)對稱設(shè)有若干組與所述弧狀腔相對設(shè)置的通腔，所述通腔內(nèi)滑動配合安裝有與所述弧狀腔插接配合連接的弧狀塊，所述弧狀腔內(nèi)頂壁內(nèi)設(shè)有第二滑移腔，所述第二滑移腔內(nèi)滑動配合安裝有與所述弧狀塊固定連接的第一滑移塊，所述第一滑移塊朝向所述插口的一側(cè)端面頂壓配合安裝有頂壓彈壓片，所述裝固塊外側(cè)滑動套裝有旋轉(zhuǎn)塊，所述旋轉(zhuǎn)塊外側(cè)轉(zhuǎn)動配合安裝有調(diào)整板，所述第一凹陷腔右側(cè)內(nèi)壁內(nèi)設(shè)有第三滑移腔，所述調(diào)整板伸入所述第三滑移腔內(nèi)且與之滑動配合連接，所述調(diào)整板內(nèi)螺紋配合安裝有第一絲桿，所述第一絲桿底部延伸末端與所述第三滑移腔內(nèi)底壁轉(zhuǎn)動配合連接，所述第一絲桿頂部延伸末端動力配合安裝有第一馬達，所述第一馬達固設(shè)于所述第三滑移腔內(nèi)頂壁內(nèi)，所述第一傳送腔內(nèi)滑動配合安裝有調(diào)整座，所述調(diào)整座底部端面內(nèi)設(shè)有第二凹陷腔，所述第二凹陷腔內(nèi)轉(zhuǎn)動配合安裝有第二轉(zhuǎn)銷軸，所述第二轉(zhuǎn)銷軸外表面分別固設(shè)有分別用以與所述第一錐狀輪嚙合的第二錐狀輪以及第三錐狀輪，所述第二轉(zhuǎn)銷軸貫穿所述調(diào)整座右側(cè)端面且右側(cè)端面內(nèi)設(shè)有花鍵腔，所述第一傳送腔右側(cè)內(nèi)壁內(nèi)與所述第二轉(zhuǎn)銷軸相對設(shè)有第二傳送腔，所述第二傳送腔右側(cè)內(nèi)壁內(nèi)固設(shè)有第二馬達，所述第二馬達左側(cè)端動力配合安裝有與所述花鍵腔花鍵配合連接的花鍵軸，所述第二凹陷腔上側(cè)的所述調(diào)整座內(nèi)螺紋配合按左右第二絲桿，所述第二絲桿左側(cè)延伸末端與所述第一傳送腔左側(cè)內(nèi)壁轉(zhuǎn)動配合連接，所述第二絲桿右側(cè)延伸末端動力配合安裝有第三馬達，所述第三馬達固設(shè)于所述第一傳送腔右側(cè)內(nèi)壁內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖像處理方法和裝置，其特征在于：所述第一滑移腔左右兩側(cè)內(nèi)壁內(nèi)對稱設(shè)有限位腔，所述限位腔內(nèi)滑動配合安裝有限位塊，所述限位塊與所述裝固座固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖像處理方法和裝置，其特征在于：左右兩側(cè)的所述支座相對的一側(cè)端面內(nèi)設(shè)有開腔，所述開腔遠離所述架體的一側(cè)內(nèi)壁內(nèi)設(shè)有第四滑移腔，所述第四滑移腔內(nèi)滑動配合安裝有固定板，所述固定板滑動配合設(shè)置在所述開腔內(nèi)且與所述架體固定連接，所述固定板內(nèi)螺紋配合安裝有第三絲桿，所述第三絲桿頂部延伸末端與所述第四滑移腔內(nèi)頂壁轉(zhuǎn)動配合連接，所述第三絲桿底部延伸末端動力配合安裝有第四馬達，所述第四馬達固設(shè)于所述第四滑移腔內(nèi)底壁內(nèi)。