[發明專利]一種線路板活化液及其活化方法在審
| 申請號: | 201810857891.0 | 申請日: | 2018-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN109023316A | 公開(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發明(設計)人: | 雷華山;劉香平;王群 | 申請(專利權)人: | 廣東利爾化學有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/30 | 分類號: | C23C18/30 |
| 代理公司: | 廣州一銳專利代理有限公司 44369 | 代理人: | 楊昕昕;董云 |
| 地址: | 510000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 活化液 線路板 覆銅箔板 活化 氯化亞錫 尿素 鹽酸 蒸餾水 室溫條件 催化層 活化劑 加速劑 氯化鈀 絡合物 穩定劑 錫離子 揮發 孔壁 溶度 沉淀 移動 流動 | ||
本發明涉及一種線路板活化液及其活化方法,該線路板活化液,按質量溶度計,包括:氯化鈀0.02?0.08g/L、氯化亞錫2?5g/L、鹽酸5?10 g/L、穩定劑0.002?0.015 g/L、加速劑0.08?0.18 g/L和尿素20?50 g/L;其余為蒸餾水。該線路板活化液的活化方法,包括:將待覆銅箔板放置在線路板活化液中,保持溫度在室溫條件下;反復移動待覆銅箔板,使活化液在待覆銅箔板的孔內流動,以便在孔壁上形成均勻的催化層。本方案中的線路板活化液中加入了尿素,可以和氯化亞錫中的錫形成穩定的絡合物,放置活化劑產生沉淀,明顯地降低了鹽酸的揮發和錫離子的氧化,從而提高了活化液的穩定性。且活化液中的達到同等效果,鈀的含量低,費用低,可以廣泛的使用。
技術領域
本發明涉及化學鍍銅技術領域,特別是涉及一種線路板活化液及其活化方法。
背景技術
PCB(Printed Circuit Board),中文名稱為印制電路板,又稱印刷線路板,是重要的電子部件,是電子元器件的支撐體,是電子元器件電氣連接的載體。由于它是采用電子印刷術制作的,故被稱為“印刷”電路板。而在PCB的制作過程中,需要化學鍍銅,化學鍍銅通常也叫沉銅或者孔化,是一種自身催化性氧化還原反應。化學鍍銅在我們PCB制造業中得到廣泛的應用。目前應用最多的是用化學鍍銅進行PCB的孔金屬化。PCB的孔金屬化的工藝流程中包括活化液處理。活化的目的是為了在基材表面上吸附一層催化性的金屬粒子,從而使整個基材表面順利地進行化學鍍銅反應。而現有的線路板活化液的鹽酸過高容易汽化,在使用時對黑氧化處理的多層內層連接盤有侵蝕現象。此外,活化液中鈀含量較高,溶液費用大,鍍銅的成本高。
發明內容
針對現有技術存在的現有的線路板活化液的鹽酸過高容易汽化,在使用時對黑氧化處理的多層內層連接盤有侵蝕現象的問題,本發明提供一種線路板活化液及其活化方法。
本申請的具體方案如下:
一種線路板活化液,按質量溶度計,包括:氯化鈀0.02-0.08g/L、氯化亞錫2-5g/L 、鹽酸5-10 g/L、穩定劑0.002-0.015 g/L、加速劑0.08-0.18 g/L和尿素20-50 g/L;其余為蒸餾水。
優選地,按質量溶度計,包括:氯化鈀0.04-0.06g/L、氯化亞錫3-4g/L 、鹽酸7-9g/L、穩定劑0.01-0.013 g/L、加速劑0.1-0.15 g/L和尿素30-40 g/L;其余為蒸餾水。
優選地,按質量溶度計,包括:氯化鈀0.05g/L、氯化亞錫3.5g/L 、鹽酸8 g/L、穩定劑0.012 g/L、加速劑0.12 g/L和尿素35 g/L;其余為蒸餾水。
優選地,所述穩定劑為與Cu+絡合能力強的絡合劑和螯合劑。
優選地,所述穩定劑為鄰菲咯啉、2,2-喹啉、2,9-二甲基菲咯啉的至少一種。
優選地,所述加速劑包括:苯并二氮唑,2-巰基苯并噻唑、胞嘧啶、一元胺、鎳鹽、銨鹽、鎢酸鹽中的至少一種。
一種線路板活化液的活化方法,包括:將待覆銅箔板放置在線路板活化液中,保持溫度在室溫條件下;反復移動待覆銅箔板,使活化液在待覆銅箔板的孔內流動,以便在孔壁上形成均勻的催化層。
優選地,反復移動待覆銅箔板3-5分鐘。
優選地,保持溫度在25C。
與現有技術相比,本發明具有如下有益效果:
本方案中的線路板活化液中加入了尿素,可以和氯化亞錫中的錫形成溫度的絡合物,放置活化劑產生沉淀,明顯地降低了鹽酸的揮發和錫離子的氧化,提高了活化液的穩定性。且活化液中的達到同等效果,鈀的含量低,費用低,可以廣泛的使用。
具體實施方式
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣東利爾化學有限公司,未經廣東利爾化學有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810857891.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





