[發(fā)明專利]雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810856961.0
• 申請(qǐng)日: 2018-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN109171783A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳牧;福瑞斯特·麥克道戈?duì)?/a>;蘭道夫·麥金利;蘇士剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東大騁醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/03
• 分類號(hào): A61B6/03
• 代理公司: 蘇州彰尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32336
• 代理人: 潘劍

1.一種雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，包括輻射源、濾過(guò)器、探測(cè)器，所述濾過(guò)器設(shè)置在所述輻射源與所述探測(cè)器之間，其特征在于：所述濾過(guò)器包括雙能模組，所述雙能模組包括至少一個(gè)雙能濾過(guò)器，所述雙能濾過(guò)器包括濾過(guò)器本體及濾過(guò)片，所述濾過(guò)片包括并排設(shè)置的一個(gè)由高k-edge材料組成的第一吸收區(qū)以及一個(gè)由低k-edge材料組成的第二吸收區(qū)，高k-edge材料的k-edge值在60keV以上，低k-edge材料的k-edge值在40kev以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述第一吸收區(qū)由單一材料組成，所述第一吸收區(qū)的材料選用鐿，镥，鉿，鉭，鎢，錸，鋨，銥，鉑，金，鉈，鉛，鉍，釙中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述第一吸收區(qū)由復(fù)合材料組成，所述復(fù)合材料至少包含一種高k-edge材料，所述高k-edge材料選用鐿，镥，鉿，鉭，鎢，錸，鋨，銥，鉑，金，鉈，鉛，鉍，釙中的一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述低k-edge材料選自鋰、鈹、鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鈧、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鎵、銣、鍶、釔、鋯、鈮、鉬、锝、釕、銠、鈀、銀、鎘、銦、錫、銫、鋇、鑭中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：通過(guò)第一吸收區(qū)及第二吸收區(qū)光子通量的減少量到15％-25％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述第一吸收區(qū)與第二吸收區(qū)均設(shè)置成片狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述濾過(guò)器本體設(shè)置成蝶形。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述濾過(guò)器本體的材質(zhì)選用低k-edge材料，所述第一吸收區(qū)和第二吸收區(qū)與所述濾過(guò)器本體位于同一直線上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述第一吸收區(qū)與第二吸收區(qū)固定在所述濾過(guò)器本體的底部，且所述第一吸收區(qū)和第二吸收區(qū)的形狀與所述濾過(guò)器本體的底部形狀相一致。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述雙能模組還包括單材質(zhì)濾過(guò)器，所述單材質(zhì)濾過(guò)器的材質(zhì)選自鋁。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述濾過(guò)器本體的截面厚度其中，θ為光源照射在濾過(guò)器本體上某一點(diǎn)與光源中心線之間的角度，L為單材質(zhì)濾過(guò)器在角度θ的厚度。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述單材質(zhì)濾過(guò)器與雙能濾過(guò)器形狀設(shè)置形同。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述單材質(zhì)濾過(guò)器與雙能濾過(guò)器均設(shè)置成蝶形。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述單材質(zhì)濾過(guò)器與雙能濾過(guò)器按任意順序排列。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述輻射源和探測(cè)器之間設(shè)置準(zhǔn)直器，所述雙能濾過(guò)器或雙能模組設(shè)置在輻射源與準(zhǔn)直器之間，所述準(zhǔn)直器與探測(cè)器之間設(shè)置成像區(qū)域。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙能計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描裝置，其特征在于：所述輻射源和探測(cè)器之間設(shè)置準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器與探測(cè)器之間沿輻射方向依次放置所述雙能模組、成像區(qū)域。