[發明專利]投影裝置、投影系統及影像校正方法

有效

• 申請號: 201810856421.2
• 申請日: 2018-07-31
• 公開（公告）號: CN110784692B
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 蕭佩琪
• 申請（專利權）人: 中強光電股份有限公司
• 主分類號: H04N9/31
• 分類號: H04N9/31
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李隆濤

1.一種投影裝置，其特征在于，所述投影裝置包括：

處理器電路，依據輸入影像及第二映射表產生反扭曲影像，并且所述投影裝置將所述反扭曲影像投影至投影屏幕，其中所述第二映射表是依據第一校正圖樣及第二校正圖樣產生多個被扭曲的特征點，以及依據所述多個被扭曲的特征點將第一映射表轉換而成，

其中所述投影裝置將所述第一校正圖樣投影至所述投影屏幕，所述第二校正圖樣是由影像擷取裝置所擷取投影至所述投影屏幕的所述第一校正圖樣的影像而取得，

其中所述第一校正圖樣包括多個第一特征點，所述第二校正圖樣包括多個第二特征點，所述處理器電路依據所述多個第一特征點以及所述多個第二特征點產生相似矩陣，以及所述處理器電路依據所述相似矩陣將所述多個第二特征點轉換為所述多個被扭曲的特征點，其中所述多個第一特征點及所述多個被扭曲的特征點位于第一坐標系，以及所述多個第二特征點位于第二坐標系，所述第一坐標系為投影機坐標系，所述第二坐標系為相機坐標系，以及

其中所述處理器電路依據所述多個第一特征點的排列方式取得最大外接四邊形，所述處理器電路依據所述多個第二特征點的排列方式取得最大內接四邊形，以及所述處理器電路依據所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形產生所述相似矩陣，其中所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形之間包括垂直與水平的縮放關系與平移關系。

2.一種影像校正方法，其特征在于，將反扭曲影像投影至投影屏幕，所述影像校正方法包括：

擷取投影至所述投影屏幕的第一校正圖樣的影像；

依據所述第一校正圖樣及第二校正圖樣產生多個被扭曲的特征點，其中所述第一校正圖樣包括多個第一特征點，所述第二校正圖樣包括多個第二特征點，其中所述多個第一特征點及所述多個被扭曲的特征點位于第一坐標系，以及所述多個第二特征點位于第二坐標系，所述第一坐標系為投影機坐標系，所述第二坐標系為相機坐標系；

依據所述多個第一特征點的排列方式取得最大外接四邊形；

依據所述多個第二特征點的排列方式取得最大內接四邊形；

依據所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形產生相似矩陣，其中所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形之間包括垂直與水平的縮放關系與平移關系；

依據所述相似矩陣將所述多個第二特征點轉換為所述多個被扭曲的特征點；

依據所述多個被扭曲的特征點將第一映射表轉換為第二映射表，其中所述第一校正圖樣被投影至所述投影屏幕，所述第二校正圖樣是擷取投影至所述投影屏幕的所述第一校正圖樣的影像而取得；以及

依據輸入影像及所述第二映射表產生所述反扭曲影像，并且將所述反扭曲影像投影至所述投影屏幕。

3.一種投影系統，用于投射影像至投影屏幕，其特征在于，所述投影系統包括：

投影裝置，將第一校正圖樣投影至所述投影屏幕；

影像擷取裝置，擷取投影至所述投影屏幕的所述第一校正圖樣的影像，以取得第二校正圖樣；以及

處理器電路，連接所述投影裝置與所述影像擷取裝置，所述處理器電路依據所述第一校正圖樣及所述第二校正圖樣產生多個被扭曲的特征點，以及依據所述多個被扭曲的特征點將第一映射表轉換為第二映射表，其中所述投影裝置依據輸入影像及所述第二映射表產生反扭曲影像，并且將所述反扭曲影像投影至所述投影屏幕，

其中所述第一校正圖樣包括多個第一特征點，所述第二校正圖樣包括多個第二特征點，所述處理器電路依據所述多個第一特征點以及所述多個第二特征點產生相似矩陣，以及所述處理器電路依據所述相似矩陣將所述多個第二特征點轉換為所述多個被扭曲的特征點，其中所述多個第一特征點及所述多個被扭曲的特征點位于第一坐標系，以及所述多個第二特征點位于第二坐標系，所述第一坐標系為投影機坐標系，所述第二坐標系為相機坐標系，以及

其中所述處理器電路依據所述多個第一特征點的排列方式取得最大外接四邊形，所述處理器電路依據所述多個第二特征點的排列方式取得最大內接四邊形，以及所述處理器電路依據所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形產生所述相似矩陣，其中所述最大外接四邊形及所述最大內接四邊形之間包括垂直與水平的縮放關系與平移關系。

4.如權利要求3所述的投影系統，其中所述影像擷取裝置設置在所述投影屏幕前的觀看者位置。