[發明專利]一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法在審
| 申請號: | 201810854924.6 | 申請日: | 2018-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN109023299A | 公開(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發明(設計)人: | 曾榮昌;于池;張柏誠;崔藍月;郭蓮;萬軍;夏洋 | 申請(專利權)人: | 山東科技大學 |
| 主分類號: | C23C16/40 | 分類號: | C23C16/40;C23C16/455;C23C18/12;C23C28/04 |
| 代理公司: | 青島智地領創專利代理有限公司 37252 | 代理人: | 陳海濱 |
| 地址: | 266590 山東省青島*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水滑石 制備 鎂合金 氧化鋁復合涂層 預處理 原子層沉積技術 鎂合金材料 鎂合金基體 氧化鋁涂層 原子層沉積 表面沉積 表面合成 表面活化 復合涂層 附著力強 工程裝備 化學原料 技術路線 結構致密 耐蝕性能 氫氧化鈉 三甲基鋁 氧化鋁層 復合材料 超純水 水熱法 碳酸根 碳酸鈉 硝酸鋁 硝酸鎂 薄膜 防護 | ||
1.一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,采用以下步驟:
(1)將鎂或鎂合金基體依次經過機械打磨、氫氧化鈉溶液和去離子水中清洗,氮氣干燥,去除表面的氧化物和雜質;
(2)前驅體制備
按摩爾比3:1:8:2的比例,分別稱取Mg(NO3)2·6H2O、Al(NO3)3·9H2O、NaOH和Na2CO3,備用;
將所取Mg(NO3)2·6H2O置于三口燒瓶中,加去離子水溶解,配制成摩爾濃度為0.1-0.5M的Mg(NO3)2·6H2O溶液;然后,加入所取Al(NO3)3·9H2O,攪拌溶解,配成混合溶液A,并將混合溶液A置于50-80℃的水浴中加熱,直至燒瓶中的混合溶液A溫度不再變化;
將所取NaOH置于容器中,加去離子水溶解,配制成摩爾濃度為0.4-1.2M的NaOH溶液;然后,加入所取Na2CO3,攪拌溶解,配制成混合溶液B;
采用邊劇烈攪拌、邊逐滴滴加的方式,將上述混合溶液B全部加入到上述裝有混合溶液A的燒瓶中,與混合溶液A均勻混合;
然后,繼續攪拌24-60小時,再靜置陳化6-18小時,得到乳白色溶膠狀的前驅體;
(3)水滑石涂層制備
將步驟(2)所制得的乳白色溶膠狀的前驅體移入水熱反應釜內,并將鎂/鎂合金基材埋入乳白色溶膠狀的前驅體中,將水熱反應釜密封后,置于干燥箱中,在100-150℃下,保溫12-60小時以使水熱反應完全;
然后,打開水熱反應釜,取出鎂/鎂合金基材,用去離子水洗凈、吹干,得到具有水滑石涂層的鎂/鎂合金材料;
(4)復合涂層制備
將步驟(3)所制得的具有水滑石涂層的樣品置于原子層沉積設備反應腔中,升溫至100℃以上恒溫半小時預先活化,然后進行水滑石涂層上氧化鋁納米膜層的原子層沉積;
原子層沉積過程為:
反應前驅體源:三甲基鋁和超純水,前驅體保持在室溫;載氣:5-15sccm的高純氮氣;沉積溫度:100-200℃;腔室壓力:0.2Torr;
工藝出源和吹掃時間,循環周期:①三甲基鋁出源時間為0.015-0.1s,吹掃時間為10-200s;②水出源時間為0.015-0.2s,吹掃時間為10-200s;循環周期為1-10000周期,得到均勻致密的水滑石-氧化鋁復合涂層。
2.根據權利要求1所述的一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,步驟(2)中Mg(NO3)2·6H2O溶液的摩爾濃度為0.3M;水浴加熱溫度為65℃;NaOH溶液的摩爾濃度為0.8M;混合溶液B與混合溶液A進行混合后的繼續攪拌時間為48小時,靜置陳化時間為12小時。
3.根據權利要求1所述的一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,步驟(3)中水熱反應的溫度為120℃,保溫時間為36小時。
4.根據權利要求1所述的一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,步驟(4)中活化溫度為100-200℃;活化時間為0.5-3小時;活化環境為低于1Torr的真空環境。
5.根據權利要求4所述的一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,步驟(4)中活化溫度為120℃;活化時間為0.5小時。
6.根據權利要求1所述的一種鎂/鎂合金的水滑石-氧化鋁復合涂層的制備方法,其特征在于,步驟(4)中原子層沉積過程的載氣:10sccm的高純氮氣;沉積溫度:120℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





