[發(fā)明專利]磁共振成像裝置的勻場(chǎng)裝置及勻場(chǎng)組件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810843921.2
• 申請(qǐng)日: 2018-07-27
• 公開（公告）號(hào): CN110764034B
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭衛(wèi)平;岳振華;任仲友
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門子（深圳）磁共振有限公司
• 主分類號(hào): G01R33/38
• 分類號(hào): G01R33/38
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.磁共振成像裝置的勻場(chǎng)裝置，所述磁共振成像裝置包括一個(gè)梯度線圈，所述梯度線圈沿其軸向具有一個(gè)安裝端面，所述安裝端面上形成有數(shù)個(gè)沿所述梯度線圈的軸向延伸的安裝孔，其特征在于，所述勻場(chǎng)裝置包括：

一個(gè)支撐部，其沿一個(gè)安裝方向形成有一個(gè)貫穿所述支撐部的支撐槽；及

至少一個(gè)插入部，其設(shè)置于所述支撐部且沿所述安裝方向延伸，所述插入部能夠平行于所述梯度線圈的軸向插入所述安裝端面并固定，所述支撐部能夠抵靠所述安裝端面使所述支撐槽連通所述安裝孔，用于勻場(chǎng)的勻場(chǎng)條能夠通過支撐槽抽出或插入安裝孔。

2.如權(quán)利要求1所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述插入部在垂直于所述安裝方向的方向上位于所述支撐槽的一側(cè)。

3.如權(quán)利要求2所述的勻場(chǎng)裝置，所述安裝孔包括一個(gè)插入孔和一個(gè)支撐孔，所述插入孔和所述支撐孔沿垂直于各自延伸方向的截面為并列且連通的兩個(gè)矩形，其特征在于，所述支撐槽和所述插入部沿所述安裝方向的投影分別與所述插入孔和所述支撐孔的截面形狀相同，所述插入部能夠插入所述支撐孔使所述支撐槽連通所述插入孔。

4.如權(quán)利要求1所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述支撐部上形成有至少一個(gè)沿所述安裝方向貫穿所述支撐部的固定通孔，抵靠于所述安裝端面的所述支撐部能夠藉由所述固定通孔和螺栓固定于所述安裝端面。

5.如權(quán)利要求1所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述支撐部上形成有沿所述安裝方向貫穿所述支撐部的操作口，所述操作口垂直于所述安裝方向分別連通所述支撐槽和所述支撐部的外表面。

6.如權(quán)利要求5所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述操作口的內(nèi)表面上，以及所述支撐部的外表面與所述操作口的內(nèi)表面連接處分別覆蓋有橡膠保護(hù)層。

7.如權(quán)利要求1所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述勻場(chǎng)裝置還包括一個(gè)直線驅(qū)動(dòng)裝置，所述直線驅(qū)動(dòng)裝置能夠在所述支撐槽連通所述安裝孔時(shí)，驅(qū)動(dòng)所述勻場(chǎng)條在所述支撐槽和所述安裝孔之間運(yùn)動(dòng)。

8.如權(quán)利要求7所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述直線驅(qū)動(dòng)裝置包括一個(gè)第一氣囊，所述第一氣囊設(shè)置于所述支撐槽，所述第一氣囊能夠充氣并將位于所述支撐槽內(nèi)的所述勻場(chǎng)條推出所述安裝孔。

9.如權(quán)利要求8所述的勻場(chǎng)裝置，其特征在于，所述直線驅(qū)動(dòng)裝置還包括一個(gè)第二氣囊，所述第二氣囊能夠設(shè)置于所述安裝孔，所述第二氣囊能夠充氣并將位于所述安裝孔內(nèi)的所述勻場(chǎng)條推出所述安裝孔。

10.磁共振成像裝置的勻場(chǎng)組件，所述磁共振成像裝置包括一個(gè)超導(dǎo)磁體和一個(gè)梯度線圈，所述梯度線圈沿其軸向具有一個(gè)安裝端面，所述安裝端面上繞所述安裝端面的圓心均勻地形成有數(shù)個(gè)沿所述梯度線圈的軸向延伸的安裝孔，所述梯度線圈穿設(shè)于所述超導(dǎo)磁體，其特征在于，所述勻場(chǎng)組件包括：

一個(gè)固定架，其能夠固定于所述超導(dǎo)磁體或所述梯度線圈；

一個(gè)旋轉(zhuǎn)架，其能夠繞一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)方向可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于所述固定架，且能夠沿所述轉(zhuǎn)動(dòng)方向相對(duì)于所述固定架運(yùn)動(dòng)，所述固定架固定于所述超導(dǎo)磁體或所述梯度線圈時(shí)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)方向與所述超導(dǎo)磁體的軸向重合；

至少一對(duì)如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的勻場(chǎng)裝置，所述一對(duì)勻場(chǎng)裝置相對(duì)于所述轉(zhuǎn)動(dòng)方向?qū)ΨQ地設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)架，且各支撐部的所述安裝方向分別平行于所述轉(zhuǎn)動(dòng)方向，所述固定架固定于所述超導(dǎo)磁體或所述梯度線圈時(shí)，所述旋轉(zhuǎn)架能夠沿所述轉(zhuǎn)動(dòng)方向相對(duì)于所述固定架運(yùn)動(dòng)并驅(qū)動(dòng)所述勻場(chǎng)裝置分別插入或抽出所述梯度線圈。