[發(fā)明專利]一種調(diào)節(jié)電子顯微鏡成像參數(shù)的方法及裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810843900.0 | 申請日: | 2018-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN109087293B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王伯丁;李應(yīng)成 | 申請(專利權(quán))人: | 新華三大數(shù)據(jù)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吳迪 |
| 地址: | 450000 河南省鄭州市鄭州高新*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 調(diào)節(jié) 電子顯微鏡 成像 參數(shù) 方法 裝置 | ||
1.一種調(diào)節(jié)電子顯微鏡成像參數(shù)的方法,其特征在于,應(yīng)用于電子顯微鏡EM,該方法包括:
所述EM獲取執(zhí)行成像前的準(zhǔn)備階段的第一參數(shù),將所述第一參數(shù)輸入預(yù)先訓(xùn)練得到的所述EM對應(yīng)的第一成像模型,得到第二參數(shù),所述電子顯微鏡成像參數(shù)包括所述第一參數(shù)和第二參數(shù);
按照所述準(zhǔn)備階段的第一參數(shù)和得到的第二參數(shù)進(jìn)行成像,得到第一圖像;
提取所述得到的第二參數(shù)中的第三參數(shù),將所述第三參數(shù)輸入預(yù)先訓(xùn)練得到的所述EM對應(yīng)的第二成像模型,得到第四參數(shù);
按照所述準(zhǔn)備階段的第一參數(shù)、提取的第三參數(shù)以及得到的第四參數(shù)進(jìn)行成像,得到第二圖像;
基于所述第一圖像以及所述第二圖像,確定所述電子顯微鏡成像參數(shù),并按照確定的所述電子顯微鏡成像參數(shù)成像;
所述基于所述第一圖像以及所述第二圖像,確定所述電子顯微鏡成像參數(shù),包括:
獲取所述第一圖像的清晰度和所述第二成像圖片的清晰度;
計(jì)算所述第一圖像的清晰度與所述第二圖像的清晰度的差值;
若所述差值小于或等于預(yù)設(shè)清晰度差閾值,獲取所述清晰度最高的圖像的成像參數(shù),作為所述EM的成像參數(shù);
若所述差值大于預(yù)設(shè)清晰度差閾值,提取清晰度最高的圖像,替換所述第一圖像;修改所述第三參數(shù)以調(diào)節(jié)再次成像的成像參數(shù),執(zhí)行所述將所述第三參數(shù)輸入預(yù)先訓(xùn)練得到的所述EM對應(yīng)的第二成像模型的步驟,直至所述差值小于或等于預(yù)設(shè)清晰度差閾值;
所述EM包括掃描電子顯微鏡SEM,在所述EM獲取執(zhí)行成像前的準(zhǔn)備階段的第一參數(shù)之前,所述方法還包括:
獲取清晰的SEM樣本圖像集,提取所述SEM樣本圖像集中每一SEM樣本圖像的成像參數(shù),所述成像參數(shù)包括第一參數(shù)以及第二參數(shù);
依據(jù)所述第一參數(shù),對提取的各SEM樣本圖像的成像參數(shù)進(jìn)行分類,得到以第一參數(shù)為鍵,以該第一參數(shù)對應(yīng)的第二參數(shù)為值的第一鍵值對集,以及,構(gòu)建以第三參數(shù)為鍵,以該第三參數(shù)對應(yīng)的第四參數(shù)為值的第二鍵值對集;
以所述第一鍵值對集中的鍵作為輸入,以該鍵對應(yīng)的值作為輸出,對預(yù)設(shè)的第一成像初始模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到所述SEM對應(yīng)的第一成像模型;以及,以所述第二鍵值對集中的鍵作為輸入,以該鍵對應(yīng)的值作為輸出,對預(yù)設(shè)的第二成像初始模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到所述SEM對應(yīng)的第二成像模型。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
顯示所述清晰度最高的圖像和所述清晰度最高的圖像的成像參數(shù)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述第一參數(shù)包括放大倍數(shù)值和加速電壓值,所述第二參數(shù)包括:電流值、束斑直徑值、工作距離值、聚焦函數(shù)值、像散函數(shù)值;所述第三參數(shù)包括:電流值、束斑直徑值和工作距離值,所述第四參數(shù)包括聚焦函數(shù)值和像散函數(shù)值。
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