[發(fā)明專利]光掩模檢查方法、光掩模制造方法及光掩模檢查裝置

在審

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• 申請日: 2018-07-27
• 公開（公告）號: CN109307980A
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發(fā)明（設計）人: 劍持大介
• 申請（專利權(quán)）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/26
• 分類號: G03F1/26;G03F1/84
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;于英慧

1.一種光掩模檢查方法，測量在光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案中包含的相移部的相位特性，該光掩模檢查方法包括：

在具備投影光學系統(tǒng)的檢查裝置中設置所述光掩模的工序；

光學像數(shù)據(jù)取得工序，將所設置的所述光掩模曝光，并通過所述投影光學系統(tǒng)將所述相移部的光學像投影到攝像面上，從而取得光學像數(shù)據(jù)；以及

運算工序，利用所取得的所述光學像數(shù)據(jù)而求出所述相移部所具有的相移量，

在所述光學像數(shù)據(jù)取得工序中，使所述光掩模、所述投影光學系統(tǒng)及所述攝像面當中的至少一部分在光軸方向上移動，而取得多個聚焦狀態(tài)的各個狀態(tài)下的所述光學像數(shù)據(jù)，

在所述運算工序中，利用所取得的所述多個聚焦狀態(tài)的所述光學像數(shù)據(jù)求出所述相移量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模檢查方法，其中，

在所述運算工序中，根據(jù)所述光學像數(shù)據(jù)針對所取得的所述多個聚焦狀態(tài)的各個狀態(tài)求出CD值，并根據(jù)所述光學像的CD值求出所述相移量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模檢查方法，其中，

在所述運算工序中，根據(jù)所述CD值成為最大值的聚焦狀態(tài)與所述相移量之間的相關性而求出所述相移量。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光掩模檢查方法，其特征在于，

在所述運算工序之前，具備如下的前工序：針對所述轉(zhuǎn)印用圖案，掌握通過所述投影光學系統(tǒng)而形成的光學像的CD值成為最大值的聚焦狀態(tài)與所述相移部所具備的相移量之間的相關性。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模檢查方法，其中，

所述前工序包括如下工序：針對所述轉(zhuǎn)印用圖案，掌握通過所述投影光學系統(tǒng)而形成的光學像的聚焦狀態(tài)與由所述聚焦狀態(tài)引起的所述光學像的CD值的變動之間的相關性。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的光掩模檢查方法，其中，

所述轉(zhuǎn)印用圖案包括孤立圖案。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的光掩模檢查方法，其中，

所述轉(zhuǎn)印用圖案包括孔圖案。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的光掩模檢查方法，其中，

所述相移部是在構(gòu)成所述光掩模的透明基板上形成曝光光透射率T為2～10％、相移量φ為170～190度的相移膜而成的。

9.一種光掩模制造方法，在該光掩模制造方法中，包括權(quán)利要求1～8中的任一項所述的光掩模檢查方法。

10.一種光掩模檢查裝置，其用于測量在光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案中包含的相移部的相位特性，其包括：

掩模保持單元，其保持作為被檢體的光掩模；

光源，其射出光；

照明光學系統(tǒng)，其對由所述光源射出的光進行引導，使該光照射到由所述掩模保持單元保持的光掩模上；

投影光學系統(tǒng)，其接收透過了所述光掩模的光束而將該光束引導至攝像面；

光學像取得部，其是在所述攝像面上設置攝像單元而成的；

驅(qū)動部，其用于使所述光掩模、所述投影光學系統(tǒng)及所述攝像面中的至少一部分在光軸方向上移動，而使所述攝像面處的聚焦狀態(tài)發(fā)生變化；

計測部，其計測通過所述驅(qū)動部使所述光掩模、所述投影光學系統(tǒng)及所述攝像面中的至少一部分移動時的移動距離；以及

運算部，其根據(jù)所述光學像取得部取得的光學像數(shù)據(jù)來求出所述攝像面上的光學像的CD值，并根據(jù)所述計測部計測出的移動距離和所述CD值來運算所述相移部的相移量。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光掩模檢查裝置，其中，

所述投影光學系統(tǒng)包括物鏡，

所述驅(qū)動部使所述物鏡在光軸方向上移動。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光掩模檢查裝置，其中，

所述運算部具備存儲部，該存儲部預先存儲有所述CD值成為最大值的所述移動距離與所述相移量之間的相關性。

13.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光掩模檢查裝置，其中，

所述投影光學系統(tǒng)具備自動聚焦機構(gòu)。