[發(fā)明專利]OLED基板及其制備方法、顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810836210.2 | 申請日: | 2018-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN109037465B | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 謝蒂旎;李偉;張曉晉 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 張雨竹 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | oled 及其 制備 方法 顯示 面板 | ||
1.一種OLED基板的制備方法,其特征在于,包括:
在基板上的顯示區(qū)形成輔助陰極;
在形成有輔助陰極的基板上,且在所述顯示區(qū)形成有機材料功能層;
向所述輔助陰極施加電壓,使所述輔助陰極發(fā)生形變,以使所述有機材料功能層被發(fā)生形變的所述輔助陰極頂破,形成連接通道;
在形成有所述有機材料功能層的基板上,在所述顯示區(qū)形成陰極;其中,在所述連接通道位置處,所述陰極與所述輔助陰極電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED基板的制備方法,其特征在于,所述輔助陰極包括層疊的底電極和頂電極,所述頂電極位于所述底電極遠離所述基板的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的OLED基板的制備方法,其特征在于,在形成所述輔助陰極的所述底電極時,還同步形成反射陽極。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的OLED基板的制備方法,其特征在于,所述底電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu);
所述頂電極為多個,多個所述頂電極間隔設置于所述底電極上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的OLED基板的制備方法,其特征在于,所述頂電極的材料選自Cu60Zn40,F(xiàn)eNi22Cr3,F(xiàn)eNiMn6,F(xiàn)eNi13Mn7,Mn72Cr18Ni10中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED基板的制備方法,其特征在于,所述基板為TFT背板。
7.一種OLED基板,其特征在于,通過權(quán)利要求1-6任一項所述的OLED基板的制備方法制備得到;
所述OLED基板包括:基板、依次設置于所述基板上且位于顯示區(qū)的輔助陰極、有機材料功能層以及陰極;
所述有機材料功能層上具有至少一個連接通道;在所述連接通道位置處,所述陰極與所述輔助陰極電連接;其中,所述輔助陰極包括層疊的底電極和頂電極,所述頂電極位于所述底電極遠離所述基板的一側(cè);
所述底電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu);
所述頂電極為多個,多個所述頂電極間隔設置于所述底電極上;
其中,所述頂電極和所述底電極的熱膨脹系數(shù)具有差異,在所述頂電極和所述底電極通電的情況下,所述頂電極和所述底電極發(fā)生形變,所述頂電極頂破所述有機材料功能層,形成所述連接通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的OLED基板,其特征在于,還包括設置于所述顯示區(qū)且位于所述有機材料功能層靠近所述基板一側(cè)的反射陽極;所述底電極與所述反射陽極同層設置。
9.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求7-8任一項所述的OLED基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





