[發(fā)明專利]提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810831924.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108588830B | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王書杰;孟靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇金暉光伏有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B29/06 | 分類號(hào): | C30B29/06;C30B28/08;C30B30/04;C01B33/037 |
| 代理公司: | 揚(yáng)州潤(rùn)中專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32315 | 代理人: | 翁斌 |
| 地址: | 225600 江蘇省揚(yáng)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提純 多晶硅 太陽能級(jí)多晶硅 電磁約束 熔煉 提拉 定向生長(zhǎng) 冶金法 多晶硅錠 高純度 工業(yè)硅 硅合金 熔體 對(duì)稱 | ||
1.一種提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:包括爐體(21),所述爐體(21)的底部設(shè)置有坩堝桿(20),所述坩堝桿(20)的一端位于所述爐體(21)的外側(cè),所述坩堝桿(20)的另一端位于所述爐體(21)內(nèi),坩堝支撐(17)固定在所述坩堝桿(20)位于爐體(21)內(nèi)的一端上,坩堝(18)位于所述坩堝支撐(17)內(nèi),所述坩堝支撐(17)的外周設(shè)置有加熱器(16),所述坩堝(18)的上方設(shè)置有偶數(shù)個(gè)電磁約束熔煉器,所述電磁約束熔煉器用于產(chǎn)生區(qū)域熔煉熔池,通過區(qū)域熔煉熔池對(duì)多晶硅錠進(jìn)行熔化加熱的同時(shí)進(jìn)行電磁約束,所述電磁約束熔煉器從下到上設(shè)置,且相鄰的所述電磁約束熔煉器左右錯(cuò)開設(shè)置,上一個(gè)所述電磁約束熔煉器的高度高于相鄰的下側(cè)的電磁約束熔煉器的高度,電磁約束熔煉器所產(chǎn)生的熔煉熔池伴隨多晶硅錠的提拉運(yùn)動(dòng)對(duì)多晶硅錠進(jìn)行提純,所述爐體(21)的頂部設(shè)置有籽晶桿(1),所述籽晶桿(1)的上端位于所述爐體(21)外側(cè),所述籽晶桿(1)的下端位于所述爐體(21)內(nèi),位于所述爐體(21)內(nèi)的籽晶桿的一端上固定有籽晶(2),且所述籽晶桿(1)在左右方向上位于電磁約束熔煉器之間,位于所述爐體(21)外側(cè)一端籽晶桿(1)上設(shè)置有籽晶桿升降及旋轉(zhuǎn)裝置,用于驅(qū)動(dòng)所述籽晶桿(1)上下升降運(yùn)動(dòng);位于所述爐體(21)外的所述坩堝桿(20)的一端設(shè)置有坩堝桿旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,用于通過驅(qū)動(dòng)所述坩堝桿(20)轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:所述電磁約束熔煉器設(shè)置有四個(gè),從下到上為電磁約束熔煉器a(14)、電磁約束熔煉器b(12)、電磁約束熔煉器c(10)和電磁約束熔煉器d(8),其中所述電磁約束熔煉器a(14)和電磁約束熔煉器c(10)位于左側(cè),電磁約束熔煉器b(12)和電磁約束熔煉器d(8)位于右側(cè),電磁約束熔煉器a(14)、電磁約束熔煉器b(12)、電磁約束熔煉器c(10)和電磁約束熔煉器d(8),用于對(duì)多晶硅錠(3)上區(qū)域熔煉熔池內(nèi)的熔體產(chǎn)生對(duì)稱的電磁約束力,保持多晶硅錠(3)受力平衡,并可以上下運(yùn)動(dòng)和左右運(yùn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:每個(gè)所述電磁約束熔煉器的下側(cè)設(shè)置有一個(gè)位置傳感器(8-3),所述位置傳感器(8-3)用于感應(yīng)所述多晶硅錠(3)的直徑,根據(jù)直徑變化來調(diào)整電磁約束熔煉器的位置。
4.如權(quán)利要求2所述的提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:與每個(gè)所述電磁約束熔煉器相對(duì)的位置設(shè)置有一個(gè)厚度探測(cè)器,所述厚度探測(cè)器用于控制所述電磁約束熔煉器形成的區(qū)域熔煉熔池的大小,從下到上分別為與電磁約束熔煉器a(14)相對(duì)應(yīng)的厚度探測(cè)器a(15)、與電磁約束熔煉器b(12)相對(duì)應(yīng)的厚度探測(cè)器b(13)、與電磁約束熔煉器c(10)相對(duì)應(yīng)的厚度探測(cè)器c(11)以及與電磁約束熔煉器d(8)相對(duì)應(yīng)的厚度探測(cè)器d(9)。
5.如權(quán)利要求2所述的提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:所述電磁約束熔煉器包括區(qū)域熔煉線圈(8-1)、線圈絕緣支撐(8-4)以及電磁約束熔煉器運(yùn)動(dòng)桿(8-2),所述區(qū)域熔煉線圈(8-1)通過所述線圈絕緣支撐(8-4)進(jìn)行支撐并進(jìn)行絕緣隔離,所述運(yùn)動(dòng)桿水平設(shè)置,且所述運(yùn)動(dòng)桿的一端位于所述爐體(21)內(nèi),所述運(yùn)動(dòng)桿的另一端位于所述爐體(21)外,位于所述爐體(21)內(nèi)的所述運(yùn)動(dòng)桿的一端與所述線圈絕緣支撐(8-4)固定連接。
6.如權(quán)利要求5所述的提純太陽能級(jí)多晶硅的裝置,其特征在于:所述線圈絕緣支撐(8-4)的整體為在其側(cè)壁上設(shè)置有上下方向延伸的開口的筒狀結(jié)構(gòu),所述絕緣支撐的橫截面的圓心角大于180°且小于225°。
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