[發明專利]基于超聲成像的HIFU探頭調節架及調節方法在審
| 申請號: | 201810828602.4 | 申請日: | 2018-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN109125961A | 公開(公告)日: | 2019-01-04 |
| 發明(設計)人: | 簡小華;徐杰;劉鵬波;呂加兵;崔崤峣 | 申請(專利權)人: | 蘇州國科昂卓醫療科技有限公司 |
| 主分類號: | A61N7/02 | 分類號: | A61N7/02;A61B8/08 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 成珊 |
| 地址: | 215163 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 擺臂 成像探頭 固定器 橫梁臂 探頭 探頭調節架 超聲成像 位置參數 控制器 成像 目標區域位置 超聲技術 動態聚焦 調節架 頻譜 探測 覆蓋 | ||
1.一種基于超聲成像的HIFU探頭調節架,其特征在于,包括:
橫梁臂;
第一固定器,與所述橫梁臂通過第一擺臂連接,用于固定高頻成像探頭;
第二固定器,與所述橫梁臂通過第二擺臂連接,用于固定低頻HIFU探頭;
控制器,分別與所述第一擺臂和所述第二擺臂連接,用于根據所述高頻成像探頭的位置參數來調整所述第二擺臂和/或所述低頻HIFU探頭的位置;
其中,所述位置參數包括:所述第一擺臂與所述橫梁臂之間的角度;和/或,所述高頻成像探頭與所述第一擺臂之間的角度;和/或,所述高頻成像探頭探測到的目標區域位置。
2.根據權利要求1所述的HIFU探頭調節架,其特征在于,還包括:
第一角度計,設置在所述第一擺臂和所述橫梁臂的連接處,用于計量所述第一擺臂和所述橫梁臂之間的第一角度;
第二角度計,設置在所述第二擺臂和所述橫梁臂的連接處,用于計量所述第二擺臂和所述橫梁臂之間的第二角度。
3.根據權利要求1所述的HIFU探頭調節架,其特征在于,所述裝置還包括:
顯示器,與所述高頻成像探頭連接,用于顯示所述高頻成像探頭探測到的畫面;
其中,所述控制器還用于根據所述畫面調整所述第一擺臂和/或所述高頻成像探頭的位置。
4.根據權利要求2所述的HIFU探頭調節架,其特征在于,所述角度計還包括:
基座;
開設在所述基座側壁上的至少一個固定孔和/或槽,用于將所述角度計的0度位置與所述橫梁臂固定連接;
旋轉器,設置在所述基座上,并能夠沿所述基座的軸線自由轉動;
限位組件,設置在所述基座上,并用于固定所述旋轉器的旋轉位置;
所述旋轉器與靠近其的所述擺臂固定連接。
5.根據權利要求1所述的HIFU探頭調節架,其特征在于,所述固定器與所述擺臂為可動連接。
6.一種基于超聲成像的HIFU探頭調節架的調節方法,其特征在于,包括:
用高頻成像探頭獲取目標區域的位置信息;
獲取第一角度計的角度值;
根據所述位置信息和/或所述角度值,計算調整所述第二角度計的角度值和/或所述低頻HIFU探頭的焦距。
7.根據權利要求6所述的基于超聲成像的HIFU探頭調節架的調節方法,其特征在于,所述根據所述位置信息和/或所述角度值,計算所述第二角度計的角度值和/或所述低頻HIFU探頭的焦距的步驟,包括:
若所述高頻成像探頭的位置是(x1,y1),則所述低頻HIFU探頭調整后的位置(x2,y2)為
其中,θ1為所述第一角度計的角度值,l0為所述橫梁臂的長度,l1為所述第一擺臂的長度,l2為所述第二擺臂的長度,T1為所述高頻成像探頭露出所述第一固定器的長度,T2為所述低頻HIFU探頭露出所述第二固定器的長度,H1為所述高頻成像探頭的高度,H2為所述低頻HIFU探頭的高度;θ2為所述第二角度計的角度值。
8.根據權利要求7所述的基于超聲成像的HIFU探頭調節架的調節方法,其特征在于,所述根據所述位置信息和/或所述角度信息,計算所述第二角度計的角度值和/或所述低頻HIFU探頭的焦距的步驟,還包括:
根據所述高頻成像探頭探測到的目標區域位置(x3,y3),確定所述低頻HIFU探頭的焦距f:
其中,(x20,y20)為所述低頻HIFU探頭的聲波發射位置。
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