[發明專利]一種氮化鎵基發光二極管外延片及其制作方法有效
| 申請號: | 201810825977.5 | 申請日: | 2018-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN109256445B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 葛永暉;郭炳磊;王群;呂蒙普;胡加輝;李鵬 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/14 | 分類號: | H01L33/14;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氮化 發光二極管 外延 及其 制作方法 | ||
本發明公開了一種氮化鎵基發光二極管外延片及其制作方法,屬于半導體技術領域。外延片包括襯底、緩沖層、N型半導體層、有源層和P型半導體層,所述緩沖層、所述N型半導體層、所述有源層和所述P型半導體層依次層疊在所述襯底上,所述P型半導體層包括M個未摻雜的氮化鈧鋁層和(M+1)個P型摻雜的氮化鎵層,M個所述氮化鈧鋁層和(M+1)個所述氮化鎵層交替層疊設置,M為正整數。本發明通過在P型摻雜的氮化鎵層中插入至少一個未摻雜的氮化鈧鋁層,氮化鈧鋁層和氮化鎵層的交界面存在較強的二維空穴氣,可以有效提升P型半導體層中空穴的橫向擴展能力,降低LED的串聯電阻,進而降低LED的正向電壓,有利于LED在民用照明上的應用。
技術領域
本發明涉及半導體技術領域,特別涉及一種氮化鎵基發光二極管外延片及其制作方法。
背景技術
發光二極管(英文:Light Emitting Diode,簡稱:LED)是一種能發光的半導體電子元件。LED具有節能環保、可靠性高、使用壽命長等優點,因而受到廣泛的關注,近年來在背光源和顯示屏領域大放異彩,并且開始向民用照明市場進軍。對于民用照明來說,省電和耐用是兩項重要的評判標準,因此降低LED的串聯電阻和提高LED的抗靜電能力顯得尤為關鍵。
氮化鎵(GaN)具有良好的熱導性能,同時具有耐高溫、耐酸堿、高硬度等優良特性,使氮化鎵(GaN)基LED受到越來越多的關注和研究。現有的氮化鎵基LED外延片包括襯底、緩沖層、N型半導體層、有源層和P型半導體層,緩沖層、N型半導體層、有源層和P型半導體層依次層疊在襯底上。P型半導體層用于提供進行復合發光的空穴,N型半導體層用于提供進行復合發光的電子,有源層用于進行電子和空穴的輻射復合發光,襯底用于為外延材料提供生長表面;襯底的材料通常選擇藍寶石,N型半導體層等結構的材料通常選擇氮化鎵,藍寶石和氮化鎵為異質材料,兩者之間存在較大的晶格失配,緩沖層用于緩解襯底和N型半導體層之間的晶格失配。
在實現本發明的過程中,發明人發現現有技術至少存在以下問題:
芯片工藝中會將電極設置在P型半導體層的部分區域上,通過電極注入P型半導體層的電流需要在P型半導體層內進行橫向擴展。由于P型半導體層提供的空穴體積較大,空穴的移動比較困難,因此電流在P型半導體層內的橫向擴展較差,LED的串聯電阻較大,導致LED的正向電壓較高,影響LED在民用照明上的應用。
發明內容
本發明實施例提供了一種氮化鎵基發光二極管外延片及其制作方法,能夠解決現有技術電流在P型半導體層內的橫向擴展較差,影響LED在民用照明上的應用的問題。所述技術方案如下:
一方面,本發明實施例提供了一種氮化鎵基發光二極管外延片,所述氮化鎵基發光二極管外延片包括襯底、緩沖層、N型半導體層、有源層和P型半導體層,所述緩沖層、所述N型半導體層、所述有源層和所述P型半導體層依次層疊在所述襯底上,所述P型半導體層包括M個未摻雜的氮化鈧鋁層和(M+1)個P型摻雜的氮化鎵層,M個所述氮化鈧鋁層和(M+1)個所述氮化鎵層交替層疊設置,M為正整數。
可選地,所述氮化鈧鋁層為ScaAl1-aN層,0.2<a<0.7。
可選地,所述氮化鈧鋁層的厚度為1nm~5nm。
優選地,所述氮化鎵層的厚度為所述氮化鈧鋁層的厚度為5倍~20倍。
可選地,2≤M≤10。
優選地,所述P型半導體層的厚度為100nm~300nm。
可選地,所述氮化鎵層中P型摻雜劑的摻雜濃度為1018/cm3~1020/cm3。
另一方面,本發明實施例提供了一種氮化鎵基發光二極管外延片的制作方法,所述制作方法包括:
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