[發(fā)明專利]光學(xué)膠涂布設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810825010.7
• 申請日: 2018-07-25
• 公開（公告）號: CN108672214A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱浩東
• 申請（專利權(quán)）人: 朱浩東
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05B15/50;B05B15/555
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明提供一種光學(xué)膠涂布設(shè)備，包括光學(xué)膠涂布機構(gòu)以及兩個光學(xué)膠殘留清除結(jié)構(gòu)；所述光學(xué)膠涂布機構(gòu)包括光學(xué)膠存儲器以及設(shè)置于所述光學(xué)膠存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側(cè)壁面與該光學(xué)膠存儲器連接，該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的涂布槽，該光學(xué)膠涂布機構(gòu)本體的兩個相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動槽；所述光學(xué)膠殘留清除結(jié)構(gòu)包括滑塊、擦板、風嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設(shè)置于所述滑動槽中，所述滑塊中設(shè)置有電機驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合，該擦板以及風嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及材料涂布領(lǐng)域，具體涉及一種光學(xué)膠涂布設(shè)備。

背景技術(shù)

光學(xué)膠涂布設(shè)備在涂布光學(xué)膠到面板上時，會在該涂布組件上殘留一些光學(xué)膠，下次涂布時這些光學(xué)膠殘留會與新的光學(xué)膠接觸，影響涂布時的質(zhì)量，可能產(chǎn)生不良產(chǎn)品。

因此，現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷，急需改進。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例的目的是提供一種光學(xué)膠涂布設(shè)備，具有自動去除光學(xué)膠殘留的效果。

本發(fā)明提供了一種光學(xué)膠涂布設(shè)備，包括光學(xué)膠涂布機構(gòu)以及兩個光學(xué)膠殘留清除結(jié)構(gòu)；

所述光學(xué)膠涂布機構(gòu)包括光學(xué)膠存儲器以及設(shè)置于所述光學(xué)膠存儲器下端面上的涂布組件，該涂布組件呈三棱柱狀，且該涂布組件的一個第一側(cè)壁面與該光學(xué)膠存儲器連接，該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的涂布槽，該涂布槽從該第一側(cè)壁面處延伸至與該第一側(cè)壁面相對的側(cè)棱處，且將該側(cè)棱貫穿，該涂布槽的長度小于該涂布組件的長度；

該光學(xué)膠涂布機構(gòu)本體的兩個相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動槽，該滑動槽沿著該涂布組件的長度方向延伸；

該兩個光學(xué)膠殘留清除結(jié)構(gòu)分別設(shè)置于該兩個第二側(cè)壁面上且可沿著所述滑動槽滑動；所述光學(xué)膠殘留清除結(jié)構(gòu)包括滑塊、擦板、風嘴以及噴液嘴，所述滑塊可滑動地設(shè)置于所述滑動槽中，所述滑塊中設(shè)置有電機驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滑塊沿著該滑動槽自動滑動，該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合，該擦板以及風嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè)；

所述涂布槽的寬度可調(diào)。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述涂布槽的內(nèi)側(cè)壁面上設(shè)置有壓電陶瓷層；

所述光學(xué)膠涂布設(shè)備還包括一語音控制器以及驅(qū)動電路，該驅(qū)動電路與壓電陶瓷層電連接，該語音控制器設(shè)置于該光學(xué)膠存儲器的側(cè)壁面上并與該驅(qū)動電路電連接，該語音控制器用于供用戶輸入涂布厚度，該語音控制器根據(jù)該涂布厚度控制該驅(qū)動電路調(diào)整該壓電陶瓷的厚度，進而調(diào)整該涂布槽的寬度。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述光學(xué)膠存儲器內(nèi)設(shè)置有溫度傳感器以及加熱組件，該溫度傳感器與該加熱組件連接。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述涂布槽的兩相對的內(nèi)側(cè)壁面分別設(shè)置有一所述壓電陶瓷層。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述涂布槽的兩相對的內(nèi)側(cè)壁面中一個側(cè)壁面設(shè)置有所述壓電陶瓷層，另一側(cè)壁面設(shè)置有一薄膜加熱層。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述擦板的寬度為所述第二側(cè)壁面寬度的一半。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述擦板可沿著所述第二側(cè)壁面的寬度方向滑動地設(shè)置于該滑塊上，且該擦板上設(shè)置有鎖緊機構(gòu)，使得鎖緊時，該擦板相對該滑塊固定，解鎖時，該擦板可相對該滑塊滑動。

在本發(fā)明所述的光學(xué)膠涂布設(shè)備中，所述擦板的與所述第二側(cè)壁面接觸的一面設(shè)置有彈性層。