[發(fā)明專(zhuān)利]光阻涂布設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810825008.X | 申請(qǐng)日: | 2018-07-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108873609A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱浩東 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 朱浩東 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/16 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/16 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滑塊 光阻 涂布組件 擦板 光阻涂布 滑動(dòng)槽 光阻涂布設(shè)備 第二側(cè)壁 第一側(cè)壁 存儲(chǔ)器 風(fēng)嘴 去除 殘留 電機(jī)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 存儲(chǔ)器連接 機(jī)構(gòu)本體 局部貼合 可滑動(dòng)地 傾斜連接 三棱柱狀 自動(dòng)滑動(dòng) 噴液嘴 涂布槽 中垂面 下端 驅(qū)動(dòng) 側(cè)面 | ||
本發(fā)明提供一種光阻涂布設(shè)備,包括光阻涂布機(jī)構(gòu)以及兩個(gè)光阻殘留去除結(jié)構(gòu);所述光阻涂布機(jī)構(gòu)包括光阻存儲(chǔ)器以及設(shè)置于所述光阻存儲(chǔ)器下端面上的涂布組件,該涂布組件呈三棱柱狀,且該涂布組件的一個(gè)第一側(cè)壁面與該光阻存儲(chǔ)器連接,該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的涂布槽,該光阻涂布機(jī)構(gòu)本體的兩個(gè)相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動(dòng)槽;所述光阻殘留去除結(jié)構(gòu)包括滑塊、擦板、風(fēng)嘴以及噴液嘴,所述滑塊可滑動(dòng)地設(shè)置于所述滑動(dòng)槽中,所述滑塊中設(shè)置有電機(jī)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以驅(qū)動(dòng)該滑塊沿著該滑動(dòng)槽自動(dòng)滑動(dòng),該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合,該擦板以及風(fēng)嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及材料涂布領(lǐng)域,具體涉及一種光阻涂布設(shè)備。
背景技術(shù)
光阻涂布設(shè)備在涂布光阻到面板上時(shí)在該涂布結(jié)構(gòu)的傾斜面上會(huì)殘留一些光阻,再次涂布時(shí),有可能會(huì)使得光阻殘留與新的光阻接觸,這些光阻殘留會(huì)影響涂布時(shí)的品質(zhì),可能產(chǎn)生不良產(chǎn)品。
因此,現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷,急需改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種光阻涂布設(shè)備,具有自動(dòng)去除光阻殘留的效果。
本發(fā)明提供了一種光阻涂布設(shè)備,包括光阻涂布機(jī)構(gòu)、兩個(gè)光阻殘留去除結(jié)構(gòu)、清洗液罐以及熱風(fēng)機(jī);
所述光阻涂布機(jī)構(gòu)包括光阻存儲(chǔ)器以及設(shè)置于所述光阻存儲(chǔ)器下端面上的涂布組件,該涂布組件呈棱柱狀,且該涂布組件的一個(gè)第一側(cè)壁面與該光阻存儲(chǔ)器的底壁連接,該光阻存儲(chǔ)器的底壁上開(kāi)設(shè)有條狀出口,該涂布組件設(shè)置有沿著該第一側(cè)壁面的中垂面設(shè)置的與該條狀出口連通的涂布槽,該涂布槽從該第一側(cè)壁面處延伸至與該第一側(cè)壁面相對(duì)的側(cè)棱處,且將該側(cè)棱貫穿,該涂布槽的長(zhǎng)度小于該涂布組件的長(zhǎng)度且等于該條狀出口的長(zhǎng)度;
該光阻涂布機(jī)構(gòu)本體的兩個(gè)相互傾斜連接的第二側(cè)壁面上分別設(shè)置有滑動(dòng)槽,該滑動(dòng)槽沿著該涂布組件的長(zhǎng)度方向延伸;
該兩個(gè)光阻殘留去除結(jié)構(gòu)分別設(shè)置于該兩個(gè)第二側(cè)壁面上且可沿著所述滑動(dòng)槽滑動(dòng);所述光阻殘留去除結(jié)構(gòu)包括滑塊、擦板、風(fēng)嘴以及噴液嘴,所述滑塊可滑動(dòng)地設(shè)置于所述滑動(dòng)槽中,所述滑塊中設(shè)置有電機(jī)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以驅(qū)動(dòng)該滑塊沿著該滑動(dòng)槽自動(dòng)滑動(dòng),該擦板設(shè)置于該滑塊上且其內(nèi)側(cè)面與該第二側(cè)壁面的局部貼合,該擦板以及風(fēng)嘴分別設(shè)置于該滑塊上且位于該擦板兩側(cè);
所述清洗液罐通過(guò)排液管與該噴液嘴連通,該熱風(fēng)機(jī)通過(guò)排風(fēng)管與該風(fēng)嘴連通。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,所述擦板的寬度為所述第二側(cè)壁面寬度的一半。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,所述擦板可沿著所述第二側(cè)壁面的寬度方向滑動(dòng)地設(shè)置于該滑塊上,且該擦板上設(shè)置有鎖緊機(jī)構(gòu),使得鎖緊時(shí),該擦板相對(duì)該滑塊固定,解鎖時(shí),該擦板可相對(duì)該滑塊滑動(dòng)。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,所述擦板的與所述第二側(cè)壁面接觸的一面設(shè)置有彈性層。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,所述擦板的寬度為所述第二側(cè)壁面的寬度相同。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,所述側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)沿著寬度方向延伸的用于導(dǎo)引清洗液的導(dǎo)流槽。
在本發(fā)明所述的光阻涂布設(shè)備中,還包括控制芯片以及電池組件,該控制芯片以及電池組件均設(shè)置于所述滑塊內(nèi),控制芯片以及電池組件分別與所述電機(jī)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于朱浩東,未經(jīng)朱浩東許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810825008.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:一種絲網(wǎng)印刷制版工藝
- 下一篇:光阻涂布裝置
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?;蝾?lèi)似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





