[發明專利]一種以g-C3 有效
| 申請號: | 201810824700.0 | 申請日: | 2018-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN108821265B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 費會;秦振華;潘海珍;陶瑞東 | 申請(專利權)人: | 武漢輕工大學 |
| 主分類號: | C01B32/184 | 分類號: | C01B32/184 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 430023 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 base sub | ||
1.一種以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,包括以下步驟:
將含碳化合物溶液和富氮化合物溶液混合,形成混合溶液,向所述混合溶液中加入金屬鹽溶液,混合攪拌形成待反應溶液;
去除所述待反應溶液中的溶劑,收集固體產物并研磨成粉末狀,得粉末狀產物;
將所述粉末狀產物在N2氛圍下升溫至500~600℃并保溫0.5~2h,然后繼續升溫至800~1100℃并再次保溫0.5~2h,得到熱解產物;
對所述熱解產物進行洗滌和干燥,得到石墨烯;
其中,所述金屬鹽溶液包括FeCl3溶液、Co(NO3)2溶液和NiCl2溶液中的至少一種,所述含碳化合物溶液包括葡萄糖溶液、果糖溶液和纖維素溶液中的至少一種,所述富氮化合物溶液包括氰胺溶液、雙氰胺溶液和三聚氰胺溶液中的至少一種。
2.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,所述葡萄糖溶液、果糖溶液或纖維素溶液的摩爾濃度均為0.0125~0.125M。
3.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,所述氰胺溶液、雙氰胺溶液或三聚氰胺溶液的摩爾濃度均為0.0125~0.125M。
4.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,所述FeCl3溶液、Co(NO3)2溶液或NiCl2溶液的摩爾濃度均為0.0125~0.125M。
5.如權利要求1至4任意一項所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,所述含碳化合物溶液、富氮化合物溶液和金屬鹽溶液的溶劑均為水;或者,
所述含碳化合物溶液、富氮化合物溶液和金屬鹽溶液的溶劑均為水和乙醇的混合液,所述混合液中的水和乙醇的體積比為1:(1~3)。
6.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,將含碳化合物溶液和富氮化合物溶液混合,形成混合液,向所述混合液中加入金屬鹽溶液,混合攪拌形成待反應溶液的步驟中:
所述含碳化合物溶液、富氮化合物溶液和金屬鹽溶液的體積比為1:(0.1~5):(0.01~0.5)。
7.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,將含碳化合物溶液和富氮化合物溶液混合,形成混合液,向所述混合液中加入金屬鹽溶液,混合攪拌形成待反應溶液的步驟中:
所述混合攪拌的攪拌時間為2~8h。
8.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,去除所述待反應溶液中的溶劑,收集固體產物并研磨成粉末狀,得粉末狀產物的步驟,具體包括:
將所述待反應溶液加熱至50~75℃,蒸發去除所述待反應溶液中的溶劑,然后收集固體產物并研磨成粉末狀,得粉末狀產物。
9.如權利要求1所述的以g-C3N4為模板制備石墨烯的方法,其特征在于,將所述粉末狀產物在N2氛圍下升溫至500~600℃并保溫0.5~2h,然后繼續升溫至800~1100℃并再次保溫0.5~2h,得到熱解產物的步驟中:
所述粉末狀的干燥產物在N2氛圍下的升溫速率為2~5℃/min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢輕工大學,未經武漢輕工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810824700.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種納米級聲波發生器
- 下一篇:一種氮摻雜石墨烯的制備方法
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法





