[發(fā)明專利]一種CdS/TiO2 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810820976.1 | 申請日: | 2018-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN109055918B | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 顧艷紅;鄭新華;羅彥 | 申請(專利權(quán))人: | 北京石油化工學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C18/12 | 分類號: | C23C18/12;C25D11/26;C23C28/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京易捷勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11613 | 代理人: | 齊勝杰 |
| 地址: | 102617 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cds tio base sub | ||
本發(fā)明涉及一種CdS/TiO2納米管陣列異質(zhì)結(jié)及其制備方法,其中,方法包括如下步驟:S1、制備TiO2納米管陣列。S2、配制鎘源前驅(qū)體溶液和硫源前驅(qū)體溶液。S3、利用超聲輔助進(jìn)行連續(xù)離子層沉降在TiO2納米管陣列的內(nèi)壁和外壁形成均勻的CdS顆粒,再經(jīng)熱處理后得到CdS/TiO2納米管陣列異質(zhì)結(jié)。本發(fā)明的制備方法能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中半導(dǎo)體顆粒難以進(jìn)入TiO2納米管的內(nèi)部并無法在納米管的內(nèi)外壁上形成大面積異質(zhì)結(jié)的問題,且方法簡單、過程易于操控、材料復(fù)合均勻。制得的CdS/TiO2納米管陣列異質(zhì)結(jié)中在納米管的內(nèi)外壁上能夠形成大面積均勻的CdS顆粒,大大增強(qiáng)了該復(fù)合材料對太陽光的利用率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體材料技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種CdS/TiO2納米管陣列異質(zhì)結(jié)及其制備方法。
背景技術(shù)
眾所周知,TiO2納米管陣列氧化膜具有優(yōu)異的光電性能。因為它具有較大比表面積、小尺寸效應(yīng)、較強(qiáng)光吸收能力等特點。可應(yīng)用在許多領(lǐng)域,如太陽能電池、光生陰極保護(hù)、分解水制氫氣、光催化、傳感器等,可以有效的解決目前人類面臨的能源問題。但是基于TiO2材料本身的結(jié)構(gòu)特點,它也存在著許多不足之處:由于它的禁帶寬度為3.2eV,只能利用λ<387nm的紫外光部分,而這部分在太陽光中所占的比重不足 4%。為了提高它的光電性能,將光吸收范圍拓展到可見光區(qū),研究人員對材料做了大量研究,發(fā)現(xiàn)利用金屬材料,非金屬材料以及金屬半導(dǎo)體的改性可以使TiO2的光吸收范圍有較大的提高。
例如現(xiàn)有中一般采用電化學(xué)沉積法、電泳沉積法、化學(xué)氣相沉積法、原子層沉積法或者連續(xù)離子沉積法等將窄帶半導(dǎo)體(如NiS、Cu2O、MoS2、 CeO2等)對TiO2進(jìn)行改性,能夠抑制光生電子和空穴復(fù)合,同時拓寬光譜吸收范圍,對其光吸收范圍得到了不同的提高。另外,現(xiàn)有中制備TiO2納米管陣列的方法有水熱法、模板法、溶膠凝膠法和陽極氧化法,但是采用水熱法和溶膠凝膠法制得的TiO2納米管兩端均為開口,排列比較混亂、并不能形成有序陣列結(jié)構(gòu),性能較差,模板法制得的TiO2雖然可以體現(xiàn)出陣列結(jié)構(gòu),但是制備工藝復(fù)雜,參數(shù)難以控制;而采用陽極氧化法制得的TiO2納米管陣列高度有序規(guī)則,具備更優(yōu)異的性能而成為目前研究者最常用的方法。
但是,采用陽極氧化制得的納米管底端均是封閉的狀態(tài),研究中發(fā)現(xiàn):由于納米管的管徑很細(xì)(大約在一百納米左右),這就造成了納米管在溶液中時其內(nèi)部的空氣很難排出,同時二氧化鈦的親水性較差,造成現(xiàn)有中無論采用上述何種方法進(jìn)行復(fù)合半導(dǎo)體時,均只能復(fù)合在納米管的表面(即管口處),無法或者極少摻進(jìn)納米管的內(nèi)外壁上,且并不均勻。進(jìn)而無法利用TiO2納米管比表面積大的優(yōu)點,也不能有效減小電子和空穴的復(fù)合,對提高異質(zhì)結(jié)的光電性能造成很大的影響。
因此,如何解決半導(dǎo)體顆粒難以進(jìn)入TiO2納米管的內(nèi)部并無法在納米管的內(nèi)外壁上形成大面積異質(zhì)結(jié)的問題成為目前研究的熱點。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
為了解決現(xiàn)有技術(shù)的上述問題,本發(fā)明提供一種CdS/TiO2納米管陣列異質(zhì)結(jié)及其制備方法,解決了現(xiàn)有技術(shù)中半導(dǎo)體顆粒難以進(jìn)入TiO2納米管的內(nèi)部并無法在納米管的內(nèi)外壁上形成大面積異質(zhì)結(jié)的問題。
(二)技術(shù)方案
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的主要技術(shù)方案包括:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京石油化工學(xué)院,未經(jīng)北京石油化工學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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